[发明专利]一种触头材料、真空灭弧室触头及其制备方法在审
| 申请号： | 201610164986.5 | 申请日： | 2016-03-21 |
| 公开（公告）号： | CN105761956A | 公开（公告）日： | 2016-07-13 |
| 发明（设计）人： | 李敏;孙淑萍;王南南;葛媛媛;张国跃 | 申请（专利权）人： | 天津平高智能电气有限公司;平高集团有限公司;国家电网公司 |
| 主分类号： | H01H1/025 | 分类号： | H01H1/025;H01H33/664;H01H11/04;C22C9/00;C22C30/02;C22C1/05 |
| 代理公司： | 郑州睿信知识产权代理有限公司 41119 | 代理人： | 牛爱周 |
| 地址： | 300304 天津市*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 材料 真空 灭弧室触头 及其 制备 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种触头材料，其特征在于：由以下质量百分比的组分组成：石墨烯0.1％～10％，余量为Cu、Cr；其中，Cu与Cr的质量比为(50～75):(25～50)。
2.根据权利要求1所述的触头材料，其特征在于：Cu与Cr的质量比为75:25、70:30、60:40、55:45或50:50。
3.一种采用如权利要求1所述的触头材料的真空灭弧室触头。
4.一种如权利要求3所述的真空灭弧室触头的制备方法，其特征在于：包括采用粉末冶金的方式，将石墨烯粉、铜粉、铬粉按配方量混合，在模具中压制成型后，在真空条件或保护气氛下进行烧结，即得。
5.根据权利要求4所述的真空灭弧室触头的制备方法，其特征在于：所述石墨烯粉的粒径为1～20μm。
6.根据权利要求4所述的真空灭弧室触头的制备方法，其特征在于：所述铜粉的粒径为10～70μm；所述铬粉的粒径为10～70μm。
7.根据权利要求4所述的真空灭弧室触头的制备方法，其特征在于：压制成型所用的压力为100～500MPa。
8.根据权利要求4所述的真空灭弧室触头的制备方法，其特征在于：所述烧结的温度为650～1000℃。
9.根据权利要求4或8所述的真空灭弧室触头的制备方法，其特征在于：所述烧结的时间为0.5～2h。
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