[发明专利]一种生成多层结构型菜单面的方法在审

专利信息
申请号: 201610160645.0 申请日: 2016-03-21
公开(公告)号: CN107220391A 公开(公告)日: 2017-09-29
发明(设计)人: 曹中臣;张志辉;何丽婷;赖锦棠 申请(专利权)人: 香港理工大学
主分类号: G06F17/50 分类号: G06F17/50;G06F17/15
代理公司: 深圳市顺天达专利商标代理有限公司44217 代理人: 郭伟刚
地址: 中国香港*** 国省代码: 香港;81
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摘要:
搜索关键词: 一种 生成 多层 结构 菜单 方法
【权利要求书】:

1.一种生成多层结构型菜单面的方法,其特征在于,使用摆动进给抛光模式,利用机械抛光技术结合特定的抛光姿态和轨迹生成多层结构型菜单面。

2.根据权利要求1所述的生成多层结构型菜单面的方法,其特征在于,影响多层结构型菜单面的生成的因素包括抛光影响函数,抛光路径和抛光策略。

3.根据权利要求2所述的生成多层结构型菜单面的方法,其特征在于,通过改变不同的抛光参数,得到对应指定的影响函数,从而生成各种设计的多层结构型菜单面。

4.根据权利要求2所述的生成多层结构型菜单面的方法,其特征在于,影响函数的预测模型是基于接触力学、运动分析理论、统计学理论以及摩擦磨损机理为基础建立的;用来预测抛光过程中抛光影响函数的理论模型为:

其中,MRR(x,y,t)是位置点(x,y)处在抛光时间t内的材料去除量;

N(kac,Vc,t,Rp,Raz)是参与材料去除的有效磨粒的空间分布,与体积分数Vc、抛光时间t、磨料颗粒半径Rp、抛光布粗糙半径Ra、抛光布粗糙面高度的标准偏差σz和有效系数kac相关联;

是在抛光过程中单个颗粒的材料去除体积,与压力分布速度分布抛光工件材料特性Hw、锥形颗粒半角β和有效磨损系数η相关联。

5.根据权利要求2所述的生成多层结构型菜单面的方法,其特征在于,所述抛光路径为摆动进给抛光模式,所述摆动进给抛光模式是指抛光主轴以抛光头为基点,绕着被加工面法线方向,在设定的进给角度范围内做往复运动。

6.根据权利要求2所述的生成多层结构型菜单面的方法,其特征在于, 所述抛光策略主要包括:光栅式、螺旋式、希尔伯特的路径、皮亚诺的路径、利萨路径、随机路径中的至少一种。

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