[发明专利]一种利用外推获得具有多次散射目标远场RCS的方法有效
| 申请号： | 201610156723.X | 申请日： | 2016-03-18 |
| 公开（公告）号： | CN105572652B | 公开（公告）日： | 2018-01-05 |
| 发明（设计）人： | 李南京;党娇娇;胡楚锋;陈卫军;徐志浩 | 申请（专利权）人： | 西北工业大学 |
| 主分类号： | G01S7/41 | 分类号： | G01S7/41 |
| 代理公司： | 西北工业大学专利中心61204 | 代理人： | 王鲜凯 |
| 地址： | 710072 *** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 利用 获得 具有 多次 散射 目标 rcs 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种基于多次散射目标的近远场外推方法，其特征在于步骤如下：
步骤1：在测量半径满足近场条件R＜2D2/λ的空间内，对待测目标进行散射测量得到完备的近场双站散射数据ENN(θtN,θrN)，ENN(θtN,θrN)采用矩阵形式表示；其中，上标NN表示近场发射、近场接收；θtN表示各发射角度，范围为-180°～180°，间隔为1°，t＝1,2,……,361；θrN表示各接收角度，范围为-180°～180°，间隔为1°，r＝1,2,……,361，D为目标最大尺寸；
步骤2：采用基于合成孔径成像的外推算法，将ENN(θtN,θrN)的每一行作外推计算得到ENF(θtN,θrF)；其中，上标NF表示近场发射、远场接收；
步骤3：根据互易定理，将步骤2得到的外推数据ENF(θtN,θrF)等效为EFN(θrN,θtF)；其中，上标FN表示远场发射、近场接收；
步骤4：采用基于合成孔径成像的外推算法，将EFN(θrN,θtF)的每一列作外推计算得到EFF(θrF,θtF)；其中，上标FF表示远场发射、远场接收；
步骤5：提取EFF(θrF,θtF)矩阵对角线数据，即为各角度下的后向单站远场RCS。
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