[发明专利]湿法制程设备及其维护方法

权利要求书

1.一种湿法制程设备，其特征在于，设N为大于1的正整数，所述湿法制程设备包括：设备本体(10)、设于设备本体(10)内的两行N列阵列排布的共2×N个反应腔(20)、及设于两行反应腔(20)之间的设备本体(10)上的滑动框(30)；

每一反应腔(20)的上表面均设有开口，对应所述开口设有覆盖所述开口的磁性盖板(21)；

所述滑动框(30)的底边(33)设于所述设备本体(10)的上表面上，所述底边(33)上设有多个相互平行的沿所述底边(33)的长度方向延伸的滑槽(34)；

所述滑动框(30)的顶边(31)具有磁性；

所述滑动框(30)的两侧边(32)分别安装于设备本体(10)的两侧壁上；

将所述磁性盖板(21)放置在滑槽(34)内，并用顶边(31)吸附住所述磁性盖板(21)的边缘，进而所述磁性盖板(21)能够沿所述滑槽(34)滑动；

所述每一滑槽(34)的宽度均等于所述磁性盖板(21)的厚度，以卡合住所述磁性盖板(21)。

2.如权利要求1所述的湿法制程设备，其特征在于，所述磁性盖板(21)的一边设有磁性材料，所述滑动框(30)的侧边(32)的长度等于与所述磁性盖板(21)设有磁性材料的一边相邻的另一边的长度。

3.如权利要求1所述的湿法制程设备，其特征在于，所述滑动框(30)能够以所述滑动框(30)的底边(33)为轴线整体进行轴向旋转。

4.如权利要求1所述的湿法制程设备，其特征在于，所述磁性盖板(21)通过其四角的螺纹连接固定在所述反应腔(20)的开口上。

5.一种湿法制程设备的维护方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤1、提供一湿法制程设备，设N为大于1的正整数，所述湿法制程设备包括：设备本体(10)、设于设备本体(10)内的两行N列阵列排布的共2×N个反应腔(20)、及设于两行反应腔(20)之间的设备本体(10)上的滑动框(30)；

每一反应腔(20)的上表面均设有开口，对应所述开口设有覆盖所述开口的磁性盖板(21)；

所述滑动框(30)的底边(33)设于所述设备本体(10)的上表面上，所述底边(33)上设有多个相互平行的沿所述底边(33)的长度方向延伸的滑槽(34)；

所述滑动框(30)的顶边(31)具有磁性；

所述滑动框(30)的两侧边(32)分别安装于设备本体(10)的两侧壁上；

步骤2、在某一反应腔(20)需要清洁或维护时，将该反应腔(20)的磁性盖板(21)拆下，放置在对应的滑槽(34)内，并吸附于顶边(31)上；

步骤3、将该反应腔(20)的磁性盖板(21)沿所述滑槽(34)滑动至非工作区；

步骤4、维护人员进入工作区对该反应腔(20)的内侧进行清洁或维护；

所述每一滑槽(34)的宽度均等于所述磁性盖板(21)的厚度，以卡合住所述磁性盖板(21)。

6.如权利要求5所述的湿法制程设备的维护方法，其特征在于，所述磁性盖板(21)的一边设有磁性材料，所述滑动框(30)的侧边(32)的长度等于与所述磁性盖板(21)设有磁性材料的一边相邻的另一边的长度；

所述步骤2中将所述磁性盖板(21)设有磁性材料的一边的对边放置在滑槽(34)内。

7.如权利要求5所述的湿法制程设备的维护方法，其特征在于，所述滑动框(30)能够以所述滑动框(30)的底边(33)为轴线整体进行轴向旋转；

所述步骤3与步骤4之间还包括将所述滑动框(30)及放置于滑动框(30)内的磁性盖板(21)共同旋转至水平面的步骤。

8.如权利要求5所述的湿法制程设备的维护方法，其特征在于，所述磁性盖板(21)通过其四角的螺纹连接固定在所述反应腔(20)的开口上。