[发明专利]一种基于零空间投影的近红外光谱预处理方法有效
申请号: | 201610153879.2 | 申请日: | 2016-03-17 |
公开(公告)号: | CN105787518B | 公开(公告)日: | 2019-04-23 |
发明(设计)人: | 吴继忠;徐清泉;夏琛;毕一鸣;吴键;廖付;李石头;夏骏;苏燕;慕继瑞;张立立;李永生;何文苗;郝贤伟 | 申请(专利权)人: | 浙江中烟工业有限责任公司 |
主分类号: | G06K9/62 | 分类号: | G06K9/62;G01N21/359 |
代理公司: | 杭州天勤知识产权代理有限公司 33224 | 代理人: | 刘静静 |
地址: | 310009 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 空间 投影 红外 光谱 预处理 方法 | ||
本发明公开了一种基于零空间投影的近红外光谱预处理方法,包括:步骤1,采集训练样本的近红外光谱以及化学值;步骤2,对近红外光谱进行排序;步骤3,利用相邻两个训练样本的化学值,计算拟合权重;步骤4,利用拟合权重生成虚拟近红外光谱;步骤5,计算差谱矩阵;步骤6,对差谱矩阵进行主成分分析,选取投影向量P;步骤7,将训练样本矩阵在P的正交方向进行投影,得到Xp;步骤8,利用偏最小二乘算法建模;步骤9,对待测样本Xnew,在P的正交方向进行投影,将投影结果代入步骤8所建模型中,得到预测物质的含量。本发明在建模之前,对训练样本和后续预测样本进行零空间的正交投影,消除干扰因素,提高建模结果的鲁棒性,降低模型的维护频率。
技术领域
本发明涉及近红外光谱技术领域,具体涉及一种基于零空间投影的近红外光谱预处理方法。
背景技术
近红外光谱能够表征待测物中的多种含氢基团信息,具有采样方便、无损伤、无污染、能够在线检测等优点,非常适合用于各种复杂混合物的检测。近红外光谱检测技术目前已广泛应用于制药、烟草、石油化工及农业等领域。
近年来,近红外光谱技术结合多元校正技术,如偏最小二乘算法(Partial LeastSquares,PLS)等进行定量分析越来越普遍,然而,在实际应用中,在模型建立之后,由于时间间隔的原因,测试样本与训练样本的状态可能不一致。例如,测试温度,湿度(水分),光谱基线漂移等不一致。当测试样本中的干扰程度不在训练样本包含的范围之内时,其模型不能很好的应对这些新的干扰,导致预测精度降低。
常用的近红外光谱预处理技术主要有求导(一阶导数谱,二阶导数谱),多元散射校正(Multiplicative scatter correction,MSC)(参见文献H.Martens,S.A.Jensen,andP.Geladi,“Multivariate linearity transformations for near infraredreflectance spectroscopy,”in Proc.Nordic Symp.Applied Statistics,1983,pp.205–234.)和标准正态变量校正(Standard normal variate,SNV)(参见文献R.J.Barnes,M.S.Dhanoa,and S.J.Lister,“Standard normal variate transformation and de-trending of near-infrared diffuse reflectance spectra,”Applied spectroscopy,vol.43,no.5,pp.772–777,1989.)等。
这些方法都假设光谱干扰项可由一常数项a和一乘性项b组成,通过对两种干扰项进行消除来达到校正目的。例如,一阶导数谱可以消除常数性的基线漂移,二阶导数谱在一阶导数之上,还可以消除乘性项的基线漂移。MSC和SNV分别通过估计近红外光谱中的干扰项a和b,从而对其进行校正。
现有的预处理方法的缺点主要是:在校正中没有考虑实际的干扰因素及其幅度,当测试样本的干扰项幅度超出训练样本范围时,会导致模型对新样本的预测精度降低。
现有的预处理方法只针对近红外光谱,没有考虑到建模对象的信息,预处理对建模对象的影响是未知的,可能出现由于预处理不当导致的预测效果不理想,甚至预测偏差超出设定阈值的现象。
发明内容
本发明提供了一种基于零空间投影的近红外光谱预处理方法,在建模之前,对训练样本和后续预测样本进行零空间的正交投影,消除干扰因素,提高建模结果的鲁棒性,降低模型的维护频率。
一种基于零空间投影的近红外光谱预处理方法,包括:
步骤1,采集训练样本的近红外光谱以及感兴趣成分的化学值;
步骤2,依据训练样本化学值由小到大的顺序,对近红外光谱进行排序;
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