[发明专利]液晶玻璃基板清洗设备和方法在审
| 申请号: | 201610153466.4 | 申请日: | 2016-03-17 |
| 公开(公告)号: | CN105665397A | 公开(公告)日: | 2016-06-15 |
| 发明(设计)人: | 李庆文;金永旭;李盛印;金宪优 | 申请(专利权)人: | 东旭科技集团有限公司;东旭集团有限公司 |
| 主分类号: | B08B11/04 | 分类号: | B08B11/04;B08B13/00 |
| 代理公司: | 北京润平知识产权代理有限公司 11283 | 代理人: | 李翔;李雪 |
| 地址: | 100075 北京市丰台区*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 液晶 玻璃 清洗 设备 方法 | ||
技术领域
本发明涉及液晶玻璃领域,具体地,涉及一种液晶玻璃基板清洗设备和方法。
背景技术
作为一种液晶显示器等所用玻璃基板的制造方法,公知地,包括称为浮法成形的 制造方法,该制造方法大致包括以下工序:成形工序,即形成带状玻璃基板;切断/倒角/研 磨工序,即将上述带状玻璃基板切断成预定尺寸的符合要求的矩形玻璃基板;清洗工序,即 清除玻璃表面的异物;以及检查、包装工序等。
其中,清洗工序使用液晶玻璃基板清洗设备来完成,以清除玻璃基板表面的沾污 和颗粒。目前的液晶玻璃基板清洗设备大多适用于采用碱性清洗剂,如含有表面活性剂KOH 或NaOH等,且目前的液晶玻璃基板清洗设备大多通过其投入单元将玻璃基板投入到输送带 后,再经过切液、碱液清洗、切液、纯水清洗、风刀、热风干燥后从输出单元输出,从而完成玻 璃基板的整个清洗流程,以备输送至下一工序。但存在的问题是,由于碱性清洗液的清洁力 度不够,使用碱性清洗液可以清除玻璃基板表面的大部分沾污和颗粒,但是玻璃基板在窑 炉锡槽退火炉成型时粘附的异物或表面滴落物,如锡斑等很难去除,这使得使用玻璃基板 制作显示器时,造成面板上的电路短路,影响成品的质量;但是,如果使用盐酸溶液等具有 高清洁强度的设备时,由于腐蚀性较强因而需要更高的防护措施,现有的液晶玻璃基板清 洗设备由于结构等的限制无法满足这一要求。
发明内容
本发明的目的是提供一种液晶玻璃基板清洗设备,该液晶玻璃基板清洗设备的清 洗液清洗单元的隔离度较好,并且本发明还提供了一种液晶玻璃基板清洗方法。
为了实现上述目的,本发明提供一种液晶玻璃基板清洗设备,该液晶玻璃基板清 洗设备包括清洗液清洗单元以及分别连接于所述清洗液清洗单元首尾两端的前隔离单元 和后隔离单元,所述前隔离单元和所述后隔离单元分别包括靠近所述清洗液清洗单元的一 侧设置的液切刀部,所述液切刀部分别设置为朝向所述清洗液清洗单元倾斜地喷射清洗 液,以形成沿所述液晶玻璃基板清洗设备的宽度方向延伸的清洗液帘。
优选地,所述液切刀部的喷嘴设置为与竖直方向的夹角为5°到30°。
优选地,所述前隔离单元和所述后隔离单元还分别包括背离所述清洗液清洗单元 的一侧设置的气切刀部。
优选地,该液晶玻璃基板清洗设备包括用于输送液晶玻璃基板的输送带,所述液 切刀部包括分别位于所述输送带上方和下方并彼此对应的上液切刀和下液切刀;所述气切 刀部包括分别位于输送带上方和下方并彼此对应的上气切刀和下气切刀。
优选地,所述前隔离单元和所述后隔离单元的所述气切刀部分别包括靠近各自对 应的所述液切刀部设置的切清洗液风刀部,所述切清洗液风刀部设置为朝向各自对应的所 述液切刀部倾斜地吹送空气。
优选地,该液晶玻璃基板清洗设备还包括连接于所述前隔离单元前端的预清洗单 元,所述前隔离单元的所述气切刀部还包括靠近所述预清洗单元设置的第二切水风刀部, 该第二切水风刀部设置为朝向所述预清洗单元倾斜地吹送空气;
并且,该液晶玻璃基板清洗设备还包括连接于所述后隔离单元尾端的纯水清洗单 元,所述后隔离单元的所述气切刀部还包括靠近所述纯水清洗单元设置的第三切水风刀 部,该第三切水风刀部设置为朝向所述纯水清洗单元倾斜地吹送空气。
优选地,该液晶玻璃基板清洗设备还包括顺序连接于所述预清洗单元前端的投入 隔离单元和投入单元,所述投入隔离单元包括第一切水风刀部,该第一切水风刀部设置为 朝向所述预清洗单元吹送空气;和/或该液晶玻璃基板清洗设备还包括顺序连接于所述纯 水清洗单元尾端的分切干燥单元和输出单元。
优选地,该液晶玻璃基板清洗设备采用耐盐酸腐蚀材料制成。
本发明还提供了一种液晶玻璃基板清洗方法,该液晶玻璃基板清洗方法包括利用 根据本发明的液晶玻璃基板清洗设备对液晶玻璃基板进行清洗,所述清洗液为盐酸溶液。
优选地,所述盐酸溶液的浓度为5%~18%,温度为30°~40°;并且,所述液晶玻璃 基板在所述清洗液清洗单元中停留的时间为30s~60s。
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