[发明专利]六方氮化硼薄片的制造方法

权利要求书

1.一种六方氮化硼薄片的制造方法，其特征在于，包括步骤：

a.将10至80重量百分比的电介质聚合物溶解在溶剂中；

b.混合20至90重量百分比的六方氮化硼粉末，以形成良好混合的六方氮化硼涂布浆料；

c.将所述浆料涂布于多个基材上，并在摄氏100至150度下进行干燥，在此处理步骤后，可获得一层的六方氮化硼薄片；

d-1.对于单一的六方氮化硼薄片，通过滚压处理，将介电聚合物层由基材上剥离；

d-2.对于多个基材上的六方氮化硼薄片，在摄氏100至250度下对所述多个基材及多个六方氮化硼薄片进行热压，用以形成多层基材。

2.根据权利要求1所述的六方氮化硼薄片的制造方法，其特征在于，所述电介质聚合物为下列聚合物的至少一种，包括聚对苯二甲酸乙酯(PETP)，聚苯硫醚(PPS)，聚醚酰亚胺(PEI)，聚醚醚酮(PEEK)，聚醚酮(PEK)，聚酰亚胺(PI)，聚偏二氟乙烯乙烯(PVDF)，酚醛树脂或丙烯酸树脂。

3.根据权利要求1所述的六方氮化硼薄片的制造方法，其特征在于，所述六方氮化硼粉末的厚度为1至500纳米，且其尺寸为0.1至100微米。

4.根据权利要求1所述的六方氮化硼薄片的制造方法，其特征在于，所述多个基材为导电层，例如钙或铝箔。

5.根据权利要求1所述的六方氮化硼薄片的制造方法，其特征在于，一导电层的厚度介于10微米至100微米。