[发明专利]PI液涂布方法

权利要求书

1.一种PI液涂布方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤1、提供一基板(100)、一超紫外光源(200)、一第一光罩(300)、一第二光罩(400)、及一传送机台(500)；

所述第一光罩(300)的长度等于基板(100)的宽度；

所述第一光罩(300)包括：一第一透光区(320)、及分别位于第一透光区(320)的两端沿所述第一光罩(300)的宽度方向延伸的两条状的第一遮光区(310)；

所述第二光罩(400)的长度等于基板(100)的长度；

所述第二光罩(400)包括：第二透光区(420)、及分别位于第二透光区(420)的两端沿所述第二光罩(400)的宽度方向延伸的两条状的第二遮光区(410)；

步骤2、将第一光罩(300)设置于超紫外光源(200)下，将基板(100)放置在传送机台(500)上，使基板(100)的一条宽边与第一光罩(300)的一条长边对齐，传送机台(500)开始传送基板(100)，超紫外光源(200)经过第一光罩(300)对基板(100)进行照射，直至基板(100)的另一条宽边与第一光罩(300)的另一条长边对齐为止；

步骤3、将第二光罩(400)设置于超紫外光源(200)下，将基板(100)旋转90°后再放置在传送机台(500)上，使基板(100)的一条长边与第二光罩(400)的一条长边对齐，传送机台(500)开始传送基板(100)，超紫外光源(200)经过第二光罩(400)对基板(100)进行照射，直至基板(100)的另一条长边与第二光罩(400)的另一条长边对齐为止，从而在基板(100)上形成有机物浓度不同的第一区域(110)和第二区域(120)，所述第一区域(110)为位于所述基板(100)边缘的经过一次和没有经过超紫外光照射的区域，所述第二区域(120)为位于所述基板(100)中央的经过两次超紫外光照射的区域，所述第一区域(110)包围所述第二区域(120)，所述第一区域(110)的有机物浓度大于所述第二区域(120)的有机物浓度；

步骤4、将PI液涂布在基板(100)的第二区域(120)。

2.如权利要求1所述的PI液涂布方法，其特征在于，所述步骤1中的基板(100)在前一制程中经过湿式清洗。

3.如权利要求1所述的PI液涂布方法，其特征在于，所述步骤1中的基板(100)为薄膜晶体管阵列基板。

4.如权利要求1所述的PI液涂布方法，其特征在于，所述步骤1中的基板(100)为彩色薄膜滤光基板。

5.如权利要求3或4所述的PI液涂布方法，其特征在于，所述步骤1中的基板(100)为玻璃基板。

6.如权利要求1所述的PI液涂布方法，其特征在于，所述第一区域(110)为所述基板(100)涂布框胶的区域，其宽度等于框胶的宽度。

7.如权利要求1所述的PI液涂布方法，其特征在于，所述步骤3中基板(100)旋转的方向为顺时针。

8.如权利要求1所述的PI液涂布方法，其特征在于，所述步骤3中基板(100)旋转的方向为逆时针。

9.如权利要求1所述的PI液涂布方法，其特征在于，所述步骤2与步骤3中传送机台(500)匀速传送基板(100)。