[发明专利]基于激光诱导瞬态小孔探针的超分辨光学成像方法在审
| 申请号： | 201610142825.6 | 申请日： | 2016-03-14 |
| 公开（公告）号： | CN105607277A | 公开（公告）日： | 2016-05-25 |
| 发明（设计）人： | 丁晨良;魏劲松 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G02B27/58 | 分类号： | G02B27/58 |
| 代理公司： | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人： | 张泽纯;张宁展 |
| 地址： | 201800 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 基于 激光 诱导 瞬态 小孔 探针 分辨 光学 成像 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种基于激光诱导瞬态小孔探针的超分辨光学成像方法，其特征在于该方法 包括以下步骤：
a)在盖玻片上用磁控溅射的方法镀上一层非线性材料薄膜；
b)将上述镀完薄膜的盖玻片紧贴于待测样品表面，且镀有薄膜的一面紧挨着样 品；
c)在扫描显微镜系统中对样品进行扫描成像。
2.一种基于激光诱导瞬态小孔探针的超分辨光学成像方法，其特征在于该方法 包括以下步骤：
a)在样品上用磁控溅射的方法镀上一层非线性材料薄膜；
b)在扫描显微镜系统中对样品进行扫描成像。
3.根据权利要求1或2所述的基于激光诱导瞬态小孔探针的超分辨光学成像方 法，其特征在于所述的步骤a)中的非线性材料是Sb、Te、Sb2Te3、Sb70Te30、InSb、 Ge2Sb2Te5、或AgInSbTe材料。
4.根据权利要求1或2所述的基于激光诱导瞬态小孔探针的超分辨光学成像方 法，其特征在于所述的步骤a)中的非线性材料的薄膜厚度在20nm到50nm之间。
5.根据权利要求1或2所述的基于激光诱导瞬态小孔探针的超分辨光学成像方 法，其特征在于所述的步骤c)中的扫描显微系统采用的光波长为405nm或者658nm。
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