[发明专利]一种利用石墨烯玻璃低成本大面积制备氮化铝薄膜的方法有效

专利信息
申请号: 201610124592.7 申请日: 2016-03-04
公开(公告)号: CN105731825B 公开(公告)日: 2018-10-26
发明(设计)人: 刘忠范;陈召龙;李晋闽;曾清;张艳锋;魏同波 申请(专利权)人: 北京大学
主分类号: C03C17/34 分类号: C03C17/34
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 代理人: 关畅
地址: 100871*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 利用 石墨 玻璃 低成本 大面积 制备 氮化 薄膜 方法
【权利要求书】:

1.一种生长AlN薄膜的方法,包括下述步骤:

1)在玻璃基底表面进行石墨烯薄膜的沉积,得到表面覆盖有石墨烯的玻璃;

2)在所述表面覆盖有石墨烯的玻璃的石墨烯表面直接进行高温AlN薄膜的沉积,得到AlN薄膜;

所述玻璃为耐高温玻璃;

所述石墨烯薄膜的沉积通过常压化学气相沉积实现;

所述常压化学气相沉积中,沉积环境为常压环境;沉积温度为1000℃-1100℃;沉积时间为60 min-600 min;载气为由氩气和氢气组成的混合气,其中氩气与氢气的流量比为1-10:1,氩气的流量为100-1000sccm,氢气的流量为50-500sccm;碳源为甲烷或乙烯,流量为10-50sccm。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:所述方法步骤1)中,所述耐高温玻璃选自下述任意一种:石英玻璃、蓝宝石玻璃和耐高温硼硅玻璃。

3.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于:所述方法步骤2)中,所述高温AlN薄膜的沉积通过下述至少一种方法来实现:金属有机化学气相沉积、分子束外延、氢化物气相外延和溅射法。

4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于:所述高温AlN薄膜的沉积通过MOCVD实现,所述MOCVD操作条件如下:所述表面覆盖有石墨烯的玻璃加热至600℃-1200℃,三甲基铝流量为50sccm-120 sccm,氨气流量为500sccm-2000 sccm,生长室压强为30torr-100torr,使用N2作为载气。

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