[发明专利]一种铜铟硫基薄膜太阳能电池的制备方法有效

专利信息
申请号: 201610120003.8 申请日: 2016-03-03
公开(公告)号: CN105679881B 公开(公告)日: 2017-10-24
发明(设计)人: 赵岳;刘洋;冯月;沈介圣;王林军;梁小燕;闵嘉华;史伟民 申请(专利权)人: 上海大学
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;H01L31/032
代理公司: 上海上大专利事务所(普通合伙)31205 代理人: 陆聪明
地址: 200444*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 铜铟硫基 薄膜 太阳能电池 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种铜铟硫基薄膜太阳能电池的制备方法,其特征在于,所述薄膜太阳能电池结构自下至上依次为:衬底/Ti/TiN/Mo背电极/Cu1-xNaxInS2/CuInS2/Cu1-xAgxInS2吸收层/Cd1-xZnxS阻挡层i-ZnO/Al:ZnO窗口层/Al(Ni)前电极,该方法具有以下步骤:

(1).衬底清洗及预处理:依次采用丙酮、乙醇和去离子水对衬底各超声清洗15min,再采用Ar等离子体对衬底进行刻蚀;

(2).在衬底上制备Ti/TiN/Mo背电极:采用磁控溅射法在衬底上依次制备Ti/TiN/Mo背电极的底层Ti薄膜、TiN薄膜、Mo薄膜,制成Ti/TiN/Mo背电极;

(3).在Ti/TiN/Mo背电极上制备Cu1-xNaxInS2/CuInS2/Cu1-xAgxInS2吸收层:

首先使用布里奇曼法分别制备Cu1-xNaxInS2、CuInS2和Cu1-xAgxInS2多晶锭,粉碎后,分别称取1g放入钨舟中作蒸发源;接着采用常规真空热蒸发法在Ti/TiN/Mo背电极上依次淀积Cu1-xNaxInS2薄膜、CuInS2薄膜,其中,Cu1-xNaxInS2薄膜厚度为50-100nm,CuInS2薄膜厚度为2-3um,然后将淀积后的Cu1-xNaxInS2/CuInS2薄膜放入在含硫气氛下的退火设备中进行退火,形成Cu1-xNaxInS2/CuInS2复合薄膜,采用溴甲醇溶液对Cu1-xNaxInS2/CuInS2复合薄膜腐蚀;采用常规真空热蒸发法在腐蚀后的Cu1-xNaxInS2/CuInS2复合薄膜上沉积Cu1-xAgxInS2薄膜层,然后将淀积后的Cu1-xNaxInS2/CuInS2/Cu1-xAgxInS2放入退火设备中进行退火,再采用溴甲醇溶液腐蚀,形成Cu1-xNaxInS2/CuInS2/Cu1-xAgxInS2吸收层;

(4).在吸收层上制备Cd1-xZnxS阻挡层:称取20mL浓度为0.2mol/L的醋酸镉、20mL浓度为0.1mol/L醋酸锌、2mL浓度为1mol/L醋酸铵和0.5ml浓度为1mol/L氨水溶液,用控温磁力搅拌器在65℃、200r/min的转速下磁力搅拌1min;将搅拌后的溶液滴加在Cu1-xNaxInS2/CuInS2/Cu1-xAgxInS2吸收层表面,然后加入20mL浓度为0.2mol/L硫脲,在磁力搅拌下,保持10-20min,取出衬底,用去离子水冲洗,真空烘干得到Cd1-xZnxS阻挡层;

(5).在Cd1-xZnxS阻挡层上依次淀积i-ZnO薄膜、Al:ZnO薄膜,制成i-ZnO/Al:ZnO窗口层:采用磁控溅射法在阻挡层上依次淀积i-ZnO薄膜、Al:ZnO薄膜,形成i-ZnO/Al:ZnO窗口层,其中,i-ZnO薄膜厚度为10-50nm,Al:ZnO薄膜厚度为500-700nm;

(6).在i-ZnO/Al:ZnO窗口层上制备前电极:称取0.1g质量的Al(Ni),放在真空蒸镀膜机中的蒸发钨舟中,将i-ZnO/Al:ZnO窗口层放在工件架上的栅极掩膜版上,加热至预设温度后,稳定10-30min控制真空蒸镀膜机参数,以预设的蒸镀速率开始蒸镀,直至蒸发钨舟中的Al(Ni)蒸发完,在i-ZnO/Al:ZnO窗口层上形成Al(Ni)前电极,再放入真空退火设备中进行真空退火,退火温度300~450℃,退火时间60~120分钟,获得铜铟硫基薄膜太阳能电池。

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