[发明专利]光传导装置和曝光机

说明书

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种光传导装置和曝光机。

背景技术

曝光是微加工过程中一个必不可少的工艺，特别是在显示行业，无论是电路的刻蚀，还是彩色滤光片的制作，都与曝光密切相关。

曝光机的有效曝光范围，是依据使用的待曝光膜尺寸、掩膜版尺寸、光学镜组等的匹配设计的，通常曝光区域无法覆盖整面待曝光膜，即使覆盖整面待曝光膜，但由于待曝光膜边缘的光阻厚度不均匀或烘烤温度有差异等因素，会导致边缘出现光阻残留。残留的光阻需要通过边缘曝光机将未曝光或未完全曝光的光阻曝光去除。因此，二次曝光会降低曝光的工作效率。

发明内容

本发明提供一种光传导装置，能够实现通过一次曝光即可完成曝光工作，防止待曝光膜的边缘出现光阻残留。

本发明提供一种光传导装置，应用于曝光机中，所述光传导装置包括弧形狭缝单元，所述弧形狭缝单元包括主体，所述主体设有弧形狭缝，所述主体还设有开孔，所述光传导装置还包括狭缝导光部和孔导光部，经由所述弧形狭缝的光线由所述狭缝导光部传导至待曝光膜的中间位置，经由所述开孔的光线由所述孔导光部传导至所述待曝光膜的边缘位置。

其中，所述开孔的数量为两个，所述两个开孔相对于所述弧形狭缝的对称轴呈对称分布。

其中，所述主体包括一对相对设置的边缘，所述两个开孔分别位于所述弧形狭缝和所述一对边缘之间。

其中，所述孔导光部包括两个反射镜片组，所述两个反射镜片组分别与所述两个开孔相对设置，用于将经由所述两个开孔传导的光线传导至所述待曝光膜的边缘位置，所述反射镜片组被设置成经过所述反射镜片组传导的光线不会干涉经由所述弧形狭缝的光线。

其中，所述弧形狭缝单元呈平板状，每个所述反射镜片组包括两个平行设置的反射镜片，所述两个反射镜片用于反射垂直射至所述弧形狭缝单元的光线，并使得反射后的光线垂直于所述弧形狭缝单元。每个所述反射镜片组的两个所述反射镜片均与所述弧形狭缝单元呈45度夹角。

其中，所述两个开孔分别为第一开孔和第二开孔；在其中一个反射镜片组中，其中一个所述反射镜片位于所述第一开孔的正下方，另一个所述反射镜片位于所述第一开孔之远离所述弧形狭缝的一侧；在另一个反射镜片组中，其中一个所述反射镜片位于所述第二开孔的正下方，另一个所述反射镜片位于所述第二开孔之远离所述弧形狭缝的一侧。

其中，所述孔导光部包括与所述两个开孔分别对应设置的两条光纤束，所述两条光纤束用于将通过所述两个开孔的光线传导至所述待曝光膜的边缘位置，所述光纤束设置成经由所述光纤束传导的光线不会干涉经由所述弧形狭缝的光线。

其中，所述两条光纤束相对设置，所述两条光纤束的一端分别设置在所述两个开孔内。

其中，所述狭缝导光部包括梯形镜片、凹面镜和凸面镜，经由所述弧形狭缝的光线依次经由所述梯形镜片、所述凹面镜和所述凸面镜，并且再依次经过所述凹面镜和所述梯形镜片二次反射从而传导至所述待曝光膜的中间位置。

本发明还提供一种曝光机，包括如前述任一项所述的光传导装置。

本发明中，光源发射的光线会由弧形狭缝单元的弧形狭缝遮挡成弧形光，该弧形光最后会传导至待曝光膜的中间位置，而弧形狭缝单元上设置的孔导光部可以将光源发射的光线传导至前述待曝光膜的边缘处，因此可以通过一次曝光就可完成曝光工作，可防止待曝光膜的边缘出现光阻残留。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是根据本发明的光传导装置的结构示意图。

图2是根据本发明的弧形狭缝单元的平面示意图。

图3是光线在根据本发明的一个实施例的光传导装置中传导的示意图。

图4是根据本发明的另一个实施例的光传导装置的平面示意图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。