[发明专利]一种离子型稀土母液处理工艺在审

专利信息
申请号: 201610108702.0 申请日: 2016-02-29
公开(公告)号: CN105695741A 公开(公告)日: 2016-06-22
发明(设计)人: 胡谷华;王朝鹏;梁安勇;潘高岗 申请(专利权)人: 中铝广西有色崇左稀土开发有限公司
主分类号: C22B3/44 分类号: C22B3/44;C22B59/00
代理公司: 广州市红荔专利代理有限公司 44214 代理人: 李彦孚;何承鑫
地址: 532200 广西壮族*** 国省代码: 广西;45
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摘要:
搜索关键词: 一种 离子 稀土 母液 处理 工艺
【说明书】:

技术领域

发明涉及稀土矿采掘技术领域,具体是一种离子型稀土母液处理工艺。

背景技术

离子型稀土矿中可回收的稀土元素以离子吸附形式存在,这些稀土离子遇到化学性质更活泼的阳离子(如Na+,K+,H+,NH+4等)时可被交换解吸,当前,离子型稀土采用的提取工艺是将浸出剂由高位水池注入经封闭处理的注液井内,浸出剂向矿体中的孔隙渗透扩散,并将吸附在黏土矿物表面的稀土离子交换解析下来,形成稀土母液流入集液沟内,送回水冶车间进行处理。

水冶车间现用的母液处理工艺主要是用碳酸氢铵溶液对回收的母液进行除杂(主要是除去溶液中的Al3+)一般除杂时间需要8小时左右,经过除杂后的溶液用碳酸氢铵溶液将母液中的稀土元素沉淀下来,沉淀过程大约需要4个小时,两个工序的生产效率都比较低,沉淀后上清液返回配液池做浸矿用,沉淀物送往陈化池陈化结晶最后用板框压滤机压滤,除去多余的水分,得到的就为较为干燥的低杂质的碳酸稀土,碳酸稀土送往分离厂,分离厂进行灼烧后用浓盐酸溶解,进行二次除杂最后才能送往分离车间分离。

上述工艺主要存在以下问题:①矿山和分离厂重复除杂,重复投入除杂设施设备和劳动力;②重复除杂使得稀土损失大特别是重稀土;③碳铵除杂时除杂时间长,导致矿山生产效率低,成本高。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是:提供一种离子型稀土母液处理工艺,该工艺能够减少二次除杂,降低设备投入成本,减少稀土损失,提高工作效率。

本发明所采用的技术方案是:一种离子型稀土母液处理工艺,包括以下步骤:

1)用浓度为2~20%的碳酸氢铵溶液将母液进行沉淀,沉淀后的清液返回配液池做浸矿用;

2)将步骤1)的沉淀物做进一步固液分离;

3)将步骤2)的固体送往分离厂用浓度20~35%的盐酸其溶解,溶解后静置3~4小时;

4)往步骤3)的溶解物中先加入浓度为0.5~1%NaOH溶液,控制PH值为4.0,再加入碳酸氢铵溶液进行除杂,碳酸氢铵浓度为1%-2%,保持混合溶液PH值4.0~5.2,对混合物进行固液分离,液体用20~35%盐酸溶液调节PH,控制PH3.0~4.0;固体使用盐酸溶解,盐酸和水质量比为1:1,溶解后的溶液返回步骤3;

5)对步骤4)调配好的溶液进行萃取分离。

本发明离子型稀土母液处理工艺相对于现有技术的工艺来说,减少了一次除杂的过程,从而因除杂造成的稀土损失也就大大的减少,稀土矿山生产设备投入成本得到降低,即不仅能够提高矿山采掘的生产效率,减少生产成本,更是对稀土资源的更合理更好的利用。

附图说明

图1为本发明一种离子型稀土母液处理工艺的流程图。

具体实施方式

以下结合附图和实施例对本发明做详细的说明。

如图1所示,本发明一种离子型稀土母液处理工艺,包括以下步骤:

1)用浓度为2~20%的碳酸氢铵溶液将母液进行沉淀,沉淀后的清液返回配液池做浸矿用;

2)将步骤1)的沉淀物做进一步固液分离;

3)将步骤2)的固体送往分离厂用浓度20~35%的盐酸其溶解,溶解后静置3~4小时;

4)往步骤3)的溶解物中先加入浓度为0.5~1%NaOH溶液,控制PH值为4.0,再加入碳酸氢铵溶液进行除杂,碳酸氢铵浓度为1%-2%,保持混合溶液PH值4.0~5.2,对混合物进行固液分离,液体用20~35%盐酸溶液调节PH,控制PH3.0~4.0;固体使用盐酸溶解,盐酸和水质量比为1:1,溶解后的溶液返回步骤3;

5)对步骤4)调配好的溶液进行萃取分离。

本发明在具体实施时,碳酸氢铵还可以用氢氧化钠或氢氧化钙替换,但考虑到浸矿液为铵离子所以选择碳酸氢铵,比好适合循环,碳酸氢铵溶液浓度优选2~5%,步骤3)中盐酸浓度优选32~35%。

本发明离子型稀土母液处理工艺相对于现有技术的工艺来说,减少了一次除杂的过程,从而因除杂造成的稀土损失也就大大的减少,稀土矿山生产设备投入成本得到降低,即不仅能够提高矿山采掘的生产效率,减少生产成本,更是对稀土资源的更合理更好的利用。

以上所述仅为本发明的较佳的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,所有熟悉本技术领域的技术人员在本发明公开的技术范围内,根据本发明的技术方案及其本发明的构思加以等同替换或改变均应涵盖在本发明的保护范围之内。

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