[发明专利]暗室洗片后处理装置在审
申请号: | 201610105226.7 | 申请日: | 2016-02-25 |
公开(公告)号: | CN105676586A | 公开(公告)日: | 2016-06-15 |
发明(设计)人: | 华容;夏子涛;林嵩;刘文祖;魏脐亮;韩业壮 | 申请(专利权)人: | 上海应用技术学院 |
主分类号: | G03D3/00 | 分类号: | G03D3/00;G03D13/12 |
代理公司: | 上海汉声知识产权代理有限公司 31236 | 代理人: | 胡晶 |
地址: | 200235 *** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 暗室 洗片后 处理 装置 | ||
技术领域
本发明涉及暗室洗片后处理技术,特别涉及的是一种适用于压力管道、压 力容器、储气罐、液化石油气管道等X射线探伤后的洗片后处理工作,可与 洗片设备搭配使用的暗室洗片后处理装置。
背景技术
在压力管道、压力容器、储气罐、液化石油气管道等需要密封的部件上, 若存在裂缝会引起泄露、爆炸等危险事故,因而需要定期的检查,通常是采用 X射线探伤检测,探伤后的胶片需要进行经过预先水洗、显影、停显、定影和 水洗等一系列工艺的处理,现有的洗片机一般集成了以上的工艺处理,但是洗 片后处理的效率较低,一般需要20-30分钟左右才会把底片的表面颗粒清洗干 净,影响整体的洗片工作效率,而且洗片机体积较大也不太便于移动,所以传 统的洗片机对冲洗胶片的工作有很大的局限性。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种暗室洗片后处理装置,单独用于洗 片后的胶片冲洗工艺,冲洗更干净,缩短洗片后处理时间,提高整体洗片工作 效率。
为解决上述问题,本发明提出一种暗室洗片后处理装置,包括外壳、洗片 架支撑装置和搅拌装置;所述外壳上端面具有开口,所述洗片架支撑装置包括 有至少两根支撑杆,各支撑杆相互平行固定在所述开口上,每根所述支撑杆上 均设置有固定凹槽,洗片架的架杆两端分别固定在相邻两根支撑杆的相对的固 定凹槽上,洗片架的置片部伸入到所述外壳内部,所述搅拌装置内置在所述外 壳内部并用以在洗片时搅拌清洗液体。
根据本发明的一个实施例,每根所述支撑杆均设置有两排固定凹槽,每排 所述固定凹槽设置在支撑杆的上端面的杆边沿上,各支撑杆之间对于固定凹槽 的排布位置相同。
根据本发明的一个实施例,在所述外壳上的下方位置处设有用以排出清洗 废液的排液孔。
根据本发明的一个实施例,在所述外壳的上端面上位于开口旁边的位置处 还设有用以盛放清洁液的盛放部件。
根据本发明的一个实施例,所述盛放部件上开设有出液孔,所述出液孔的 孔道延伸至所述外壳内部。
根据本发明的一个实施例,在所述外壳内部靠近上方位置处设置有用以测 量清洗液体的温度的温度计。
根据本发明的一个实施例,在所述外壳内部靠近上方位置处设置有U型 卡,所述温度计固定在所述U型卡中。
根据本发明的一个实施例,在所述外壳上对应能够观察到所述温度计的位 置处设有透明观察窗。
根据本发明的一个实施例,还包括U型拉杆,所述U型拉杆的U型开口 两端分别连接在所述外壳的相对的两个外侧面上,所述U型拉杆相对于所述 外壳的放置面朝上倾斜。
根据本发明的一个实施例,所述U型拉杆和所述外壳通过滑动锁紧装置 连接,所述滑动锁紧装置包括设置在所述外壳上的上滑块、设置在所述U型 拉杆上的下滑块和锁紧件,所述上滑块和下滑块配合滑动连接,所述锁紧件将 连接的上滑块和下滑块锁紧。
根据本发明的一个实施例,在所述外壳底部设置有行走轮。
根据本发明的一个实施例,在所述外壳外部还设置有计时器和启闭所述计 时器的开关装置。
根据本发明的一个实施例,在所述外壳的开口边沿对应固定支撑杆的位置 处开设有半月凹槽,所述支撑杆的两个端部上设有配合所述半月凹槽连接的半 月凸台。
采用上述技术方案后,本发明相比现有技术具有以下有益效果:本发明的 暗室洗片后处理装置单独用于胶片洗片后进行冲洗后处理,外壳内部用来盛装 冲刷胶片的清洗液体,在外壳的开口上设置洗片架支撑装置,洗片架上固定有 洗片后的胶片,洗片架可以通过固定凹槽简易地放置到支撑杆上,从而洗片架 的置片部可以伸入到外壳内部,从而胶片可以由外壳内的清洗液体进行清洗, 通过搅拌装置对清洗液体进行搅拌,本发明的暗室洗片后处理装置可以加速清 洗过程,冲洗更干净,缩短洗片后处理时间,提高整体洗片工作效率。
附图说明
图1为本发明实施例的暗室洗片后处理装置的结构示意图;
图2为本发明实施例的暗室洗片后处理装置的俯视结构示意图;
图3为本发明实施例的洗片架支撑装置的结构示意图;
图4为本发明实施例的暗室洗片后处理装置的内侧局部图;
图5为本发明实施例的暗室洗片后处理装置的外侧局部图;
图6为本发明实施例的下滑块的结构示意图;
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海应用技术学院,未经上海应用技术学院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201610105226.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。