[发明专利]一种钕铁硼磁体原料粉末及其处理工艺

权利要求书

1.一种钕铁硼磁体原料粉末的处理工艺，其特征在于，包括以下步骤：

在保护气体的条件下，将经过气流磨磨制后的钕铁硼原料细粉，进行表面镀镍后，得到钕铁硼磁体原料粉末；

所述钕铁硼磁体原料粉末包括钕铁硼原料细粉及包覆在其表面的镍层；

所述钕铁硼原料细粉为经过气流磨磨制后的细粉；

所述钕铁硼原料细粉的粒度为3～5μm；

所述镍层的厚度为30～70nm；

所述镀镍用的镀镍溶液包括硫酸镍、还原剂、络合剂、稳定剂、缓冲剂和水。

2.根据权利要求1所述的处理工艺，其特征在于，所述钕铁硼磁体原料，按质量百分比组成包括：Pr-Nd：28％～33％；Dy：0～10％；Tb：0～10％；Nb：0～5％；Al：0～1％；B：0.5％～2.0％；Cu：0～1％；Co：0～3％；Ga：0～2％；Gd：0～2％；Ho：0～2％；Zr：0～2％；余量为Fe。

3.根据权利要求1所述的处理工艺，其特征在于，所述表面镀镍的温度为75～85℃，所述表面镀镍的时间为20～30min。

4.根据权利要求1所述的处理工艺，其特征在于，所述表面镀镍具体为浸入镀镍溶液进行表面镀镍；

所述钕铁硼原料细粉质量与所述镀镍溶液的体积比为(30～50)g：1L。

5.根据权利要求1所述的处理工艺，其特征在于，所述还原剂为次磷酸钠，所述络合剂为柠檬酸钠，所述稳定剂为甘氨乙酸，所述缓冲剂为乳酸钠；

所述镀镍溶液中，所述硫酸镍的浓度为25～30g/L；所述还原剂的浓度为25～30g/L；所述络合剂的浓度为20～25g/L；所述稳定剂的浓度为0.001～0.004g/L；所述缓冲剂的浓度为20～25g/L。

6.一种钕铁硼磁体，其特征在于，由权利要求1～5任意一项处理工艺所制备的钕铁硼磁体原料粉末，经过压制成型和烧结后得到。