[发明专利]一种新型的真空彩色镀膜工艺在审
| 申请号： | 201610104131.3 | 申请日： | 2016-02-25 |
| 公开（公告）号： | CN105671513A | 公开（公告）日： | 2016-06-15 |
| 发明（设计）人： | 黄勇彪;林文宝;刘海燕;涂代旺;郑林芬 | 申请（专利权）人： | 深圳市众诚达应用材料科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/58 | 分类号： | C23C14/58 |
| 代理公司： | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人： | 韩介梅 |
| 地址： | 518106 广东省深圳市光明新*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 新型 真空 彩色 镀膜 工艺 | ||
【权利要求书】：
1.一种新型的真空彩色镀膜工艺，其特征在于：包括如下步骤：在基材上 采用传统真空镀膜方法沉积膜层，再将该基材置于真空腔体内，持续通入O3， 维持腔内气压10-1～102Pa，处理后在基材上获得彩色膜。
2.根据权利要求1所述的真空彩色镀膜工艺，其特征在于：所述的传统真 空镀膜方法为真空蒸发法、磁控溅射法、多弧离子镀中的任意一种。
3.根据权利要求1所述的真空彩色镀膜工艺，其特征在于：在采用传统真 空镀膜方法沉积膜层后，将基材置于真空腔体内，持续通入O2，再通过电晕放 电法或紫外照射法将O2转化为O3，对基材进行处理。
4.根据权利要求1所述的真空彩色镀膜工艺，其特征在于：所述的沉积膜 层时所用的镀材为Cu、Ti、Al、Zr、Si中的一种或多种的合金材料。
5.根据权利要求1所述的真空彩色镀膜工艺，其特征在于：所述的基材为 玻璃、金属、陶瓷或者塑料。
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