[发明专利]一种CF4等离子体氟化绝缘子的方法在审

专利信息
申请号: 201610101980.3 申请日: 2016-02-24
公开(公告)号: CN105761857A 公开(公告)日: 2016-07-13
发明(设计)人: 张冠军;陈思乐;常正实;李平;许桂敏;姚聪伟 申请(专利权)人: 西安交通大学
主分类号: H01B19/04 分类号: H01B19/04
代理公司: 西安通大专利代理有限责任公司 61200 代理人: 闵岳峰
地址: 710049 陕*** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 一种 cf sub 等离子体 氟化 绝缘子 方法
【权利要求书】:

1.一种CF4等离子体氟化绝缘子的方法,其特征在于,包括以下步骤:

将绝缘子放置于反应腔体中,通入CF4气体与惰性气体的混合物,在室温及0.01~0.1atm的低气压下,通过放电等离子体处理2~30min,使得CF4气体与绝缘子表面发生反应形成氟化层。

2.根据权利要求1所述的CF4等离子体氟化绝缘子的方法,其特征在于:CF4气体与惰性气体的混合物中,CF4气体的体积浓度为1~10%,其余为惰性气体,充当保护气。

3.根据权利要求1所述的CF4等离子体氟化绝缘子的方法,其特征在于:绝缘子的材料为环氧树脂、硅橡胶、氧化铝陶瓷或钢化玻璃。

4.根据权利要求1所述的CF4等离子体氟化绝缘子的方法,其特征在于:绝缘子的表面氟化层厚度在100nm数量级。

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