[发明专利]血液辐照仪、剂量监测系统及辐照剂量测量方法有效

专利信息
申请号: 201610101348.9 申请日: 2016-02-24
公开(公告)号: CN105597179B 公开(公告)日: 2018-01-05
发明(设计)人: 代秋声;徐如祥;杨磊 申请(专利权)人: 江苏摩科特医疗科技有限公司
主分类号: A61M1/36 分类号: A61M1/36
代理公司: 深圳市科进知识产权代理事务所(普通合伙)44316 代理人: 郝明琴
地址: 215028 江苏省苏州市*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 血液 辐照 剂量 监测 系统 测量方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及医疗器械技术领域,尤其涉及一种单X射线源的血液辐照仪、剂量监测系统及辐照剂量测量方法。

背景技术

输血相关性移植物抗宿主病(TA-GVHD)是免疫缺损或免疫抑制的患者不能清除输入血液中具有免疫活性的淋巴细胞,使其在体内植活、增殖,将患者的组织器官识别为非己物质,并作为靶目标进行免疫攻击、破坏的一种致命性输血并发症。TA-GVHD临床表现缺乏特异性,极易漏诊和误诊。

有研究表明引起TA-GVHD的受体输入淋巴细胞数量应大于107/kg,如若低于105/kg则不会引起TA-GVHD。但有报道对免疫缺陷的儿童仅104/kg淋巴细胞即引发TA-GVHD。总之输入供体的淋巴细胞数量越多其病情越严重,死亡率也就越高。

目前认为输血前对血制品进行照射,是预防TA-GVHD惟一有效的方法。其机制是:淋巴细胞对射线敏感,通过适当剂量的射线照射,可使免疫活性淋巴细胞灭活,丧失增殖能力。而对红细胞、血小板的功能及凝血因子活性影响不大。

血液辐照仪就是一种使用射线照射血液或制品,对淋巴细胞进行灭活,预防输血活动中TA-GVHD疾病(输血相关性移植物抗宿主病)的医疗设备。现有技术中,血液辐照仪的的X射线利用率普遍较低,且辐照时间较长,由此导致X射线血液辐照仪的运营成本较高,不利于推广应用。

同时,为了既保证对淋巴细胞有效灭活,又保证不对红细胞、血小板的功能及凝血因子活性造成大的影响,辐照剂量需要控制一个适当范围,一般在20~50Gy之间。因此,血液辐照仪中的剂量监测系统以及测量的准确性非常重要。

发明内容

基于此,本发明提供一种剂量监测系统及辐照剂量测量方法。

一种剂量监测系统,其包括第一探测器及第二探测器,所述第一探测器设置于所述容器朝向所述X射线源的表面侧,探测穿过血液或制品之前的入射X光子和穿过血液或制品后的反射X光子,所述第二探测器设置于所述容器背离所述X射线源的表面侧,探测穿过血液或制品之后的入射X光子和穿过血液或制品之前的反射X光子。

所述剂量监测系统利用第一探测器和第二探测器可以有效地测量沉积在血液或制品中射线的辐射剂量。

本发明一较佳实施方式中,还包括连接于所述第一探测器和所述第二探测器的数据采集处理模块,所述数据采集处理模块采集并处理所述第一探测器探测的剂量数据和所述第二探测器探测的剂量数据。

由此,所述剂量监测系统利用第一探测器、第二探测器及数据采集处理模块,可以有效准确地测量沉积在血液或制品中射线的辐射剂量。

一种辐照剂量测量方法,其包括如下步骤:

S101、利用第一探测器探测获得穿过血液或制品之前的入射X光子的剂量为D0、穿过血液或制品后的反射X光子的剂量为B1,利用所述第二探测器探测穿过血液或制品之后的入射X光子的剂量为D1、穿过血液或制品之前的反射X光子的剂量为B0;

S102、在所述第二探测器靠近内反射层的一侧放置重金属板,此时所述第二探测器的测量值是为D1;

S103、在所述第二探测器远离内反射层的一侧放置重金属板,此时所述第二探测器的测量值为B0;

S104、计算血液或制品中沉积的X光子的剂量(D0-D1)+(B0-B1)=(A-B)+2(B0-B1),其中A、B分别为所述第一探测器和所述第二探测器的测量值。

所述辐照剂量测量方法简单易行,可以有效准确地测量沉积在血液或制品中射线的辐射剂量。

本发明一较佳实施方式中,所述重金属板的面积正好覆盖所述第二探测器。

附图说明

图1为本发明第一实施例提供的血液辐照仪的示意图;

图2为图1所示血液辐照仪的内部结构示意图;

图3为图2所示血液辐照仪的内部结构中区域III-III的放大示意图;

图4为本发明第二实施例提供的剂量监测系统的示意图;

图5为图4所示剂量监测系统的工作示意图;

图6为本发明第三实施例提供的辐照剂量测量方法的流程图;

图7为图6所示辐照剂量测量方法中测量获得α的方法流程图;

图8为图7所示测量获得α的方法中的步骤S1031的示意图;

图9为图7所示测量获得α的方法中的步骤S1033的示意图。

具体实施方式

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