[发明专利]一种制备石墨烯、六角氮化硼等薄膜材料的化学气相沉积装置在审

专利信息
申请号: 201610096667.5 申请日: 2016-02-23
公开(公告)号: CN107099782A 公开(公告)日: 2017-08-29
发明(设计)人: 董国材;张祥;唐琪雯 申请(专利权)人: 常州国成新材料科技有限公司
主分类号: C23C16/26 分类号: C23C16/26;C23C16/34;C23C16/44
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 213149 江苏省常*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 制备 石墨 六角 氮化 薄膜 材料 化学 沉积 装置
【权利要求书】:

1.一种制备石墨烯、六角氮化硼等薄膜材料的化学气相沉积装置,其特征在于,所述装置包括两个独立的真空腔体——主腔体(1)和副腔体(2)、加热装置(3)、测温装置、供气装置、抽气装置、冷凝装置、传动装置(4)、插板阀(5)及硼氮蒸发源(6),其中主腔体(1)用于薄膜材料的制备,副腔体(2)用于硼氮源的洗气。

2.根据权利要求1所述的用于制备石墨烯、六角氮化硼等薄膜材料的化学气相沉积装置,其特征在于:所述的真空腔体A带有冷凝水层,可通过循环冷凝水的方式降低腔壁温度。

3.根据权利要求1所述的用于制备石墨烯、六角氮化硼等薄膜材料的化学气相沉积装置,其特征在于:所述真空腔体B与硼氮蒸发源直接相连接,用于硼氮源的洗气,防止硼氮源经过真空腔体A造成对主腔体的污染。

4.根据权利要求1所述的一种用于制备石墨烯、六角氮化硼等薄膜材料的化学气相沉积装置,其特征在于:所述的加热装置置于真空腔体A中,采用电阻加热的方式。

5.根据权利要求1所述的一种用于制备石墨烯、六角氮化硼等薄膜材料的化学气相沉积装置,其特征在于:所述的测温装置由万用表(7)和K型热电偶(8)组成,其中热电偶直接置于样品(9)表面,可得到薄膜生长过程中的实际温度。

6.根据权利要求1所述的一种用于制备石墨烯、六角氮化硼等薄膜材料的化学气相沉积装置,其特征在于:所述的供气装置包括减压阀(10)、微漏阀(11)、真空计(12)、气源(13),其中气源可供氮气、氢气、氩气、甲烷和乙烯等气体,减压阀连接导气管,导气管连接微漏阀,通过微漏阀的精确调节,气体进入主腔体A。

7.根据权利要求1所述的一种用于制备石墨烯、六角氮化硼等薄膜材料的化学气相沉积装置,其特征在于:所述的抽气装置包括机械泵(14)、分子泵(15),分子泵通过CF接口与副腔体B连接,另一端使用KF接口通过波纹管与机械泵连接。

8.根据权利要求1所述的一种用于制备石墨烯、六角氮化硼等薄膜材料的化学气相沉积装置,其特征在于:所述的冷凝装置由循环水机(16)、过滤装置(17)组成,主要为主腔体A及分子泵降温。

9.根据权利要求1所述的一种用于制备石墨烯、六角氮化硼等薄膜材料的化学气相沉积装置,其特征在于:所述的插板阀(4)可以为手动、气动、或电动插板阀,两面分别通过CF接口与主腔体A和副腔体B相连,实现隔绝与串通两个腔体的功能。

10.根据权利要求1所述的一种用于制备石墨烯、六角氮化硼等薄膜材料的化学气相沉积装置,其特征在于:所述的硼氮蒸发源(5)为帕尔贴制冷器,通过帕尔贴原理实现硼氮源的低温存储和使用,可在数分钟之内快速降温至-10℃,适用于常温下为液体的蒸发温度较低的硼氮源,如环硼氮烷等,硼氮蒸发源通过三通接口可分别通入主腔体A和副腔体B中,流量通过微漏阀调节。

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