[发明专利]表面等离子体透镜制作方法在审
| 申请号： | 201610089176.8 | 申请日： | 2016-02-17 |
| 公开（公告）号： | CN105467478A | 公开（公告）日： | 2016-04-06 |
| 发明（设计）人： | 文静;钟阳万;王康;冯辉;张大伟 | 申请（专利权）人： | 上海理工大学 |
| 主分类号： | G02B3/00 | 分类号： | G02B3/00 |
| 代理公司： | 上海汉声知识产权代理有限公司 31236 | 代理人： | 胡晶 |
| 地址： | 200093 *** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 表面 等离子体 透镜 制作方法 | ||
1.一种表面等离子体透镜制作方法，其特征在于，包括：
提供基底；
在所述基底的上表面形成一定厚度的金属膜层；
刻蚀所述金属膜层的上表面以形成一主环形槽；
刻蚀所述主环形槽的槽底表面以形成一副环形槽，所述副环形槽沿所述主 环形槽的周向形成，所述主环形槽和副环形槽的环心连线垂直于所述金属膜层 上表面，所述主环形槽的外径大于所述副环形槽的外径，所述副环形槽的底部 端面高于所述金属膜层的下表面。
2.如权利要求1所述的表面等离子体透镜制作方法，其特征在于，还包括： 在提供所述基底之前清洗所述基底。
3.如权利要求1所述的表面等离子体透镜制作方法，其特征在于，所述金 属膜层为金属银膜。
4.如权利要求1所述的表面等离子体透镜制作方法，其特征在于，所述主 环形槽的内径等于所述副环形槽的内径。
5.如权利要求4所述的表面等离子体透镜制作方法，其特征在于，所述主 环形槽和副环形槽的内径为1345nm。
6.如权利要求1所述的表面等离子体透镜制作方法，其特征在于，所述主 环形槽的槽宽大于所述副环形槽的槽宽，所述主环形槽的槽深大于所述副环形 槽的槽深。
7.如权利要求6所述的表面等离子体透镜制作方法，其特征在于，所述主 环形槽和副环形槽的截面槽型呈矩形。
8.如权利要求7所述的表面等离子体透镜制作方法，其特征在于，所述主 环形槽的槽宽为310nm，槽深为110nm。
9.如权利要求7所述的表面等离子体透镜制作方法，其特征在于，所述副 环形槽的槽宽为155nm，槽深为20nm。
10.如权利要求1或8或9所述的表面等离子体透镜制作方法，其特征在 于，所述金属膜层的厚度大于300nm，所述副环形槽的底部端面高于所述金 属膜层的下表面。
11.如权利要求1所述的表面等离子体透镜制作方法，其特征在于，所述 主环形槽和副环形槽采用聚焦离子束在所述金属膜层上刻蚀而成。
12.如权利要求1所述的表面等离子体透镜制作方法，其特征在于，表面 等离子体透镜的工作波为径向偏振光，工作波的波长在600nm～670nm之间。
13.如权利要求12所述的表面等离子体透镜制作方法，其特征在于，所述 工作波的波长为633nm。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海理工大学，未经上海理工大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201610089176.8/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：弹性光扩散板
- 下一篇：光学膜、偏振片保护膜、偏振片及液晶显示装置
