[发明专利]吸着装置、吸着系统及其应用

说明书

技术领域

本发明涉及一种吸着装置、吸着系统及其应用，特别是涉及一种可避免被吸着物下垂变形的吸着装置、吸着系统及其应用。

背景技术

随着电子用品轻薄化的发展趋势，所使用的基板(例如玻璃基板)的厚度渐趋薄化。

其次，在制造流程中，基材通常是利用吸着装置来输送，其中吸着装置是利用真空所产生的吸引力吸着基材，而可将基材输送至各个处理工作站，进而被进行相关的处理步骤，因此使基材满足不同的应用需求。

然而，现有的吸着装置虽可吸住薄化基材，但薄化基材因厚度较薄，被吸着时的下垂变形量会变大。且随着基材厚度越薄，下垂程度会越来越严重。如此，不但会造成工艺上准确度问题，过大的下垂变形量甚至会导致基材破裂。

有鉴于此，亟须提供一种吸着装置、吸着系统及其应用，以改进现有吸着装置、吸着系统及其应用的缺陷。

发明内容

因此，本发明的目的在于提供一种吸着装置、吸着系统及其应用，可避免被吸着物因吸着不均所产生的下垂变形。

本发明的一实施例提供一种吸着装置，其借由吸着单元的连接关系抑制被吸着物因现有吸着不均所产生下垂变形的缺陷。

本发明的另一实施例提供一种吸着装置，其结合吸着单元与静电盘，以抑制被吸着物因吸着不均所产生下垂变形的缺陷。

本发明的又一实施例提供一种吸着装置，其调整吸着单元与静电盘的相对关系，以进一步抑制被吸着物因吸着不均所产生的下垂变形。

本发明的再一实施例提供一种吸着系统，其包含前述的吸着装置。

本发明的另一实施例提供一种吸着系统，其包含前述另一实施例的吸着装置。

本发明的再一实施例提供一种贴合基板的方法，其利用前述再一实施例的吸着系统吸着基板，而可抑制基板因吸着不均所产生的下垂变形。

本发明的另一实施例提供一种贴合基板的方法，其利用前述又另一实施例的吸着系统吸着基板，而可抑制基板因吸着不均所产生的下垂变形。

根据本发明的一实施例，提出一种吸着装置。此吸着装置包含多个第一吸着单元及多个第二吸着单元。多个第一吸着单元间隔设置，并定义出至少一个间隔区域。多个第二吸着单元设置于多个第一吸着单元的至少一个上，且延伸至前述至少一个间隔区域的至少一个上。

根据本发明的另一实施例，提出一种吸着装置。此吸着装置包含多个第一吸着单元、多个第二吸着单元及多个静电盘。多个第一吸着单元间隔设置，并定义出至少一个间隔区域。多个第二吸着单元设置于第一吸着单元的至少一个上，且多个第二吸着单元延伸至至少一个间隔区域的至少一个中。前述的静电盘分别设置于间隔区域中，且每个静电盘具有对应第二吸着单元的多个凹陷部。其中，每个第二吸着单元可移动地通过所对应的凹陷部。

依据本发明的一实施例，前述第二吸着单元的其中至少两个互相平行。

依据本发明的另一实施例，此吸着装置还包含至少一个连接件，且此连接件与第一吸着单元连接。

依据本发明的又一实施例，前述第二吸着单元的至少一个垂直于第一吸 着单元。

依据本发明的另一实施例，前述多个第一吸着单元互相平行。

依据本发明的另一实施例，前述第一吸着单元及第二吸着单元的至少一个具有连接元件及设置于连接元件上的吸着元件。

依据本发明的另一实施例，前述吸着装置还包含至少一个连接件，且至少一个连接件与第一吸着单元连接。

根据本发明的又一实施例，提出一种吸着装置。此吸着装置包含多个第一吸着单元、多个第二吸着单元及多个静电盘。多个第一吸着单元分开设置。多个第二吸着单元的至少一个连接前述第一吸着单元的至少两个。多个静电盘分别设置于第一吸着单元与第二吸着单元之间，而使每个第一吸着单元和每个第二吸着单元可移动地通过多个静电盘。

依据本发明的一实施例，前述每个第二吸着单元分别垂直于第一吸着单元。

依据本发明的另一实施例，前述的多个第一吸着单元互相平行。

根据本发明的又一实施例，提出一种吸着系统。此吸着系统设置于本体上，且吸着系统包含动作机构及前述的吸着装置。此吸着装置中的每个第一吸着单元连接动作机构。

根据本发明的再一实施例，提出一种吸着系统。此吸着系统包含动作机构及吸着装置。每个第一吸着单元连接动作机构，且静电盘设置于本体的底部上。