[发明专利]具有浮动保护剂的光刻抗蚀剂有效
| 申请号： | 201610081815.6 | 申请日： | 2016-02-05 |
| 公开（公告）号： | CN105929634B | 公开（公告）日： | 2020-01-14 |
| 发明（设计）人： | 张庆裕;王建惟;陈学安 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/004 |
| 代理公司： | 11409 北京德恒律治知识产权代理有限公司 | 代理人： | 章社杲;李伟 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 具有 浮动 保护 光刻 抗蚀剂 | ||
【说明书】：
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