[发明专利]用于温室栽培的补给系统在审

专利信息
申请号: 201610078168.3 申请日: 2016-02-04
公开(公告)号: CN105724118A 公开(公告)日: 2016-07-06
发明(设计)人: 刘宏涛;宋利平;袁玲 申请(专利权)人: 中国科学院武汉植物园
主分类号: A01G9/14 分类号: A01G9/14;A01G9/24;A01G25/16;E03B3/02;A01C23/04
代理公司: 北京远大卓悦知识产权代理事务所(普通合伙) 11369 代理人: 张云花
地址: 430074*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 用于 温室 栽培 补给 系统
【说明书】:

技术领域

发明涉及园艺相关领域。更具体地说,本发明涉及一种用于温室栽培的补给系统。

背景技术

随着我国城市化进程的加快,为了满足城市居民需求,温室的功能不断拓展,以现代化玻璃温室为载体的各种景观温室迅速发展。在景观温室内,景观规划设计师通过规划、设计,在满足植物生长发育的基础上,按照美学原理和环境特点,将生长在不同地域和气候条件下的植物,合理配置、有机的组合在一起,营造一种植物景观美。

传统的生产温室灌溉方式采用滴灌技术,滴灌在一定程度上节约水肥,缓解水资源利用率的问题。随着植物的生长,常年施肥,长期缺乏雨水淋溶作用,容易导致土壤次生盐渍化发生,土壤盐渍化易导致植物死亡。

目前景观温室多采用滴灌和人工浇灌方式,但在景观温室内,由于植物品种较多,生长习性不一,传统的滴灌技术不适合在景观温室内使用,而人工浇灌容易浪费水肥。如何有效解决景观温室室内水肥浪费、土壤盐渍化问题,做到精细化管理,目前尚无一种特别有效的解决办法。因此,根据植物生长需求,研发一种温室内补给系统,该系统在室内植物生长过程中满足植物生长水肥需求,消除土壤盐渍化、节约水肥。

发明内容

本发明的一个目的是提供一种用于温室栽培的补给系统,其在室内植物生长过程中满足植物生长水肥需求、消除土壤盐渍化、节约水肥,通过智能控制,做到精细化管理,成本低,可操作性强。

为了实现根据本发明的这些目的和其它优点,提供了一种用于温室栽培的补给系统,植物种植于室内温室的栽培基质中,包括:

废液回收管和废液回收池,所述废液回收管的一端埋设在所述温室栽培基质中,另一端连通至所述废液回收池的进液口,用于将所述温室栽培基质中的残留废液导入所述废液回收池;

雨水回收池和配肥池,所述雨水回收池的进液口与所述废液回收池的出液口连通,所述雨水回收池上还设有雨水回收导管,用于将收集的雨水导入所述雨水回收池,所述雨水回收池的出液口连通至所述配肥池的进液口,所述配肥池中投放有可溶性肥料;以及

灌溉管,其一部分管路埋设在所述温室栽培基质中,所述灌溉管的进液口分别通过第一输液管和第二输液管与所述雨水回收池和所述配肥池连通,所述灌溉管上设置有管道泵,所述第一输液管和所述第二输液管上分别设置有第一电磁阀和第二电磁阀。

优选的是,所述的用于温室栽培的补给系统,还包括:

EC值传感器、pH值传感器以及湿度传感器,其检测探头均埋设在所述温室栽培基质中,分别用于检测所述温室栽培基质的EC值、pH值和湿度值;以及

控制器,其与所述第一电磁阀、所述EC值传感器、所述pH值传感器及所述湿度传感器均电连接,所述控制器设置为:当pH值大于代表碱性报警的预设pH上限值时、或pH值小于代表酸性报警的预设pH下限值时、或代表盐害报警的EC值大于预设EC值上限值时,打开第一电磁阀,至当土壤湿度值达到预设湿度上限值,关闭所述第一电磁阀。

优选的是,所述的用于温室栽培的补给系统,还包括:

过滤池和净水池,所述过滤池的进液口与所述雨水回收池的出液口连通,所述过滤池的出液口与所述净水池的进液口连通,所述净水池的出液口与所述配肥池的进液口连通,所述过滤池和所述净水池设置在所述雨水回收池和所述第一输液管之间;

其中,所述过滤池中设置有过滤网,所述过滤网设置于所述过滤池的进液口与所述过滤池的出液口之间,并将所述过滤池的进液口与所述过滤池的出液口分隔在两个空间。

优选的是,所述的用于温室栽培的补给系统,所述净水池与所述配肥池的连通管道上设置有第三电磁阀,所述配肥池中设有搅拌机。

优选的是,所述的用于温室栽培的补给系统,所述雨水回收池与所述废液回收池的连通管道上设置有第四电磁阀,所述雨水回收导管上设置有第五电磁阀,所述雨水回收池中设置有液位传感器;

其中,所述第四电磁阀、所述第五电磁阀和所述液位传感器均与所述控制器连接,当所述液位传感器检测到雨水回收池中的水位高于预设水位上限值时,关闭所述第四电磁阀和所述第五电磁阀,当所述液位传感器检测到雨水回收池中的水位低于预设水位上限值时,打开所述第四电磁阀和所述第五电磁阀。

优选的是,所述的用于温室栽培的补给系统,温室底部为倾角为3~5°的斜坡,所述废液回收管埋设在斜坡的低部。

优选的是,所述的用于温室栽培的补给系统,所述EC值传感器、所述pH值传感器及所述湿度传感器的检测探头均埋设在所述温室栽培基质中距离植物根系下方3~8厘米的位置。

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