[发明专利]一种显示基板、显示装置及定位标识的识别方法有效

专利信息
申请号: 201610065507.4 申请日: 2016-01-29
公开(公告)号: CN105572938B 公开(公告)日: 2018-06-08
发明(设计)人: 张海博;党张伟;张庆亮;王衡 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
主分类号: G02F1/1333 分类号: G02F1/1333;G09F9/30
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 许静;黄灿
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 衬底基板 定位标识 显示装置 显示基板 通孔 材料形成 设置区域 图形设置 侧面 反光率 防漏光 基板 正对 制作
【说明书】:

发明提供一种显示基板、显示装置及定位标识的识别方法,涉及显示领域。其中,基板包括:衬底基板,和在所述衬底基板的第一侧面上形成的第一图形和第二图形,所述第二图形设置在所述第一图形与所述衬底基板之间,且所述第一图形具有一正对所述第二图形的第一通孔;其中,所述第一图形与所述第二图形由反光率不同的材料形成,所述第一通孔作为衬底基板第一侧面一侧的定位标识。在本发明的方案中,不需要对定位标识的设置区域进行防漏光处理,可提高显示装置制作效率,进而降低生产成本。

技术领域

本发明涉及显示领域,特别是指一种显示基板、显示装置及定位标识的识别方法。

背景技术

在当前显示装置的制作过程中,显示基板的上、下两侧都需要分别设置定位标记,以进行研磨、检查、贴Pol等工艺。图1所示的是显示装置的基板,现有技术需要在基板边缘的空白区域设计定位标识Mark(即图1中黑色十字图形)。其中,基板的空白区域是上下透光的,因此可以作为基板上侧或下侧的对位标记。

由于现有的Mark需要在空白区域进行设计,那么,在Panel加装背光源后,Mark所在的空白区域势必会有漏光情况发生。而为了防止漏光,那么必须在后期对该区域进行处理,从而导致工艺变得复杂、成本提升、且产品品质不高。

此外,在基板上为Mark预留空白区域,也不符合显示装置向窄边框甚至无边框发展的趋势。

发明内容

本发明的目的是提供一种定位标识的设置方案,不需要对定位标识的设置区域进行防漏光处理,可提高显示装置制作效率,进而降低生产成本。

为实现上述发明目的,一方面,本发明的实施例提供一种显示基板,包括:

在衬底基板第一侧面上形成的第一图形和第二图形,所述第二图形设置在所述第一图形与衬底基板之间,且所述第一图形具有一正对所述第二图形的第一通孔;

其中,所述第一图形与所述第二图形由反光率不同的材料形成;所述第一通孔作为在对衬底基板第一侧面一侧的定位标识。

可选地,所述第二图形具有一正对所述第一图形的第二通孔,所述第二通孔位于所述衬底基板第一侧面的正向投影与所述第一通孔位于所述衬底基板第一侧面的正向投影相互错开,所述第二通孔作为衬底基板第二侧面一侧的定位标识,所述第二侧面为所述衬底基板上与所述第一侧面相对的一侧。

可选地,所述显示基板还包括:

金属图形以及黑矩阵图形;

其中,所述第一图形与所述金属图形同层同材料形成,所述第二图形与所述黑矩阵图形同层同材料形成;或者所述第一图形与所述黑矩阵同层同材料形成,所述第二图形与所述金属图形同层同材料形成。

可选地,所述第一图形为所述金属图形,所述第二图形为黑矩阵;或者第一图形为黑矩阵,所述第二图形为金属图形。

可选地,所述第一通孔为四个,分布成一矩形的四个顶点;和/或所述第二通孔为四个,分布成另一矩形的四个顶点。

可选地,所述第一通孔和所述第二通孔的图形为圆形或多边形。

可选地,所述第一通孔和所述第二通孔设置在非显示区域内。

另一方面,本发明还提供一种显示装置,包括有上述显示基板。

此外,本发明还提供一种定位标识的识别方法,应用于上述显示基板,包括:

对所述衬底基板的第一侧面进行照射;

根据所述基板的第一侧面的反射光,确定出由所述第一通孔作为的定位标识。

可选地,所述对位方法还包括:

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201610065507.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top