[发明专利]一种阵列基板、其制作方法及显示装置在审
申请号: | 201610060107.4 | 申请日: | 2016-01-28 |
公开(公告)号: | CN105655295A | 公开(公告)日: | 2016-06-08 |
发明(设计)人: | 蔡振飞;罗传文;张心杰 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/77 | 分类号: | H01L21/77;G02F1/1343;G02F1/1362;G02F1/1368 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 黄志华 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 阵列 制作方法 显示装置 | ||
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤指一种阵列基板、其制作方法及显示装置。
背景技术
目前,薄膜晶体管液晶显示器(ThinFilmTransistorLiquidCrystalDisplay, 简称TFT-LCD)具有体积小、功耗低、无辐射等特点,在当前的平板显示器市 场中占据了主导地位。
TFT-LCD主要由对盒的阵列基板和彩膜基板构成,在8.5GTFT-LCD生产 线生产过程中,在基板上沉积膜层时,由于设备腔室空间较大,一些异物容易 跟随反应气体一起沉积到基板上。以基于超高级超维场开关(HighAdvanced SuperDimensionSwitch,简称HADS)模式的阵列基板为例,如图1所示, 该阵列基板包括:衬底基板01,依次设置在衬底基板上的第一绝缘层02、数 据线03、第二绝缘层04和公共电极05,在沉积第二绝缘层的过程中,有异物 06跟随反应气体一起沉积在第二绝缘层04中,第二绝缘层04中的异物06落 在数据线03上,这样会造成数据线03与公共电极05之间的短路,数据线传 递的数据信号与公共电极传递的公共信号之间也会受到干扰。目前此问题一直 无法得到很好的改善,通过设备清洁等手段均无法解决。
发明内容
有鉴于此,本发明实施例提供一种阵列基板、其制作方法及显示装置,可 以防止信号线与电极之间的绝缘层上的异物造成两者发生短路,提高产品良 率,同时减小产品损耗。
因此,本发明实施例提供了一种阵列基板,包括:衬底基板,依次设置在 所述衬底基板上的信号线、绝缘层和电极;还包括:
位于所述信号线的表面的有机膜。
在一种可能的实现方式中,在本发明实施例提供的上述阵列基板中,所述 有机膜与所述信号线的图形一致。
在一种可能的实现方式中,在本发明实施例提供的上述阵列基板中,所述 有机膜为在形成所述信号线的图形时,保留在所述信号线的图形表面的有机材 料。
在一种可能的实现方式中,在本发明实施例提供的上述阵列基板中,所述 有机膜为在形成所述信号线的图形时,对保留在所述信号线的图形表面的有机 材料进行灰化处理形成的。
在一种可能的实现方式中,在本发明实施例提供的上述阵列基板中,所述 信号线为数据线或栅线。
在一种可能的实现方式中,在本发明实施例提供的上述阵列基板中,所述 电极为公共电极或像素电极。
在一种可能的实现方式中,在本发明实施例提供的上述阵列基板中,所述 有机膜的材料为聚酰亚胺类高分子材料或丙烯酸树脂材料。
本发明实施例还提供了一种本发明实施例提供的上述阵列基板的制作方 法,包括:
在衬底基板上形成层叠设置的信号线和有机膜的图形;
在形成有所述有机膜图形的衬底基板上形成包括绝缘层和电极的图形;所 述绝缘层和电极在所述衬底基板上的正投影均覆盖所述有机膜在所述衬底基 板上的正投影。
在一种可能的实现方式中,本发明实施例提供的上述阵列基板的制作方法 中,在衬底基板上形成包括信号线和有机膜的图形,具体包括:
在衬底基板上依次叠加形成导电膜层和有机材料膜层;
对所述导电膜层和有机材料膜层进行一次构图工艺,形成层叠设置的信号 线和有机膜的图形。
在一种可能的实现方式中,本发明实施例提供的上述阵列基板的制作方法 中,对所述导电膜层和有机材料膜层进行一次构图工艺,形成层叠设置的信号 线和有机膜的图形之后,还包括:
对所述有机膜的图形进行灰化处理。
本发明实施例还提供了一种显示装置,包括本发明实施例提供的上述阵列 基板。
本发明实施例的有益效果包括:
本发明实施例提供的一种阵列基板、其制作方法及显示装置,该阵列基板 包括:衬底基板,依次设置在衬底基板上的信号线、绝缘层和电极;还包括: 位于信号线的表面的有机膜。由于本发明实施例提供的阵列基板上的信号线表 面设置有有机膜,可以防止信号线与电极之间的绝缘层上的异物造成两者发生 短路,提高了产品良率,同时由于有机膜的存在增加了信号线与电极之间的距 离,使寄生电容减小,降低了产品的功耗。
附图说明
图1为现有技术中阵列基板的结构示意图;
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