[发明专利]曝光装置、曝光方法、及元件制造方法

权利要求书

1.一种曝光装置，用于用照明光曝光基板，其特征在于，其具备：

投影光学系统，用于将该照明光投影到排列于该投影光学系统的下方的基板上；

被配置成支撑该投影光学系统的框架结构；

各自具有反射型格子部的多个格子构件，该多个格子构件的每个格子构件被该框架结构支撑以使得该格子部与正交于该投影光学系统的光轴的既定面大致平行地被排列；

载台，其可在该格子构件的下方移动，且被配置成保持该基板；以及编码器系统，具有被设置于该载台的多个读头，该多个读头的每个读头被配置成从该格子部的下方向该格子部上照射光束，以便获取该载台的位置资讯；

驱动系统，其具有被配置成驱动该载台的马达；以及

控制系统，其被配置成基于所获取的位置资讯控制该驱动系统，

其中该读头的每个读头被设置于该载台以便关于平行于该既定面的方向被排列在该载台的上面的外侧，

并且其中该格子构件被该框架结构支撑以便在平行于该既定面的方向可移动。

2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于其中,

该格子构件的每个格子构件具有覆盖该格子部的平板状保护玻璃，光束经由该平板状保护玻璃照射到该格子部上。

3.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于其中，

还具备嘴单元，其被设置在该投影光学系统的下端侧，具有供该照明光通过的开口，并且被配置成用液体在该投影光学系统与被载台保持在与该投影光学系统相反侧位置的该基板的一部分之间形成液浸区域，

其中该格子构件被排列在该嘴单元的外侧，并且

其中该曝光装置被配置成经由该投影光学系统和该液浸区域的液体用该照明光曝光该基板。

4.根据权利要求2所述的曝光装置，其特征在于其中，

还具备嘴单元，其被设置在该投影光学系统的下端侧，具有供该照明光通过的开口，并且被配置成用液体在该投影光学系统与被载台保持在与该投影光学系统相反侧位置的该基板的一部分之间形成液浸区域，

其中该格子构件被排列在该嘴单元的外侧，并且

其中该曝光装置被配置成经由该投影光学系统和该液浸区域的液体用该照明光曝光该基板。

5.根据权利要求3所述的曝光装置，其特征在于其中，

该嘴单元在该嘴单元的下面侧具有形成有该开口的平坦面。

6.根据权利要求4所述的曝光装置，其特征在于其中，

该嘴单元在该嘴单元的下面侧具有形成有该开口的平坦面。

7.根据权利要求3至6中任一项所述的曝光装置，其特征在于其中，

该格子构件包围该嘴单元并且被排列以使得该格子部比该嘴单元的下面位置高。

8.根据权利要求3至6中任一项所述的曝光装置，其特征在于其中，

该嘴单元在该嘴单元的下面侧具有包围该照明光所通过的该开口的回收口，并且

其中该嘴单元被排列成向该液浸区域供应液体并且该回收口被排列成从该液浸区域回收液体。

9.根据权利要求3至6中任一项所述的曝光装置，其特征在于其中，

还具备被配置成支撑该嘴单元、与该框架结构不同的支撑构件。

10.一种元件制造方法，其特征在于，包括：

使用权利要求1至9中任一项所述的曝光装置曝光基板；并且

将经曝光的该基板显影。