[发明专利]一种高陡边坡植被恢复系统及其方法在审

专利信息
申请号: 201610053139.1 申请日: 2016-01-27
公开(公告)号: CN105684778A 公开(公告)日: 2016-06-22
发明(设计)人: 欧哲;杨家富;王铁;张光权;邹明;牛永庆;刘泽民;张艳 申请(专利权)人: 宏大国源(芜湖)资源环境治理有限公司
主分类号: A01G9/10 分类号: A01G9/10;A01G13/02;E02D17/20
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 241200 安*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 高陡边坡 植被 恢复 系统 及其 方法
【权利要求书】:

1.一种高陡边坡植被恢复系统,其特征在于,包括:

拦水槽,沿水平方向分布于高陡边坡本体的表层上;

加筋网,位于高陡边坡本体的表层;

生长基质,生长基质覆盖在高陡边坡本体的表层;

种子萌发基质,种子萌发基质纵向条状镶嵌于生长基质中,位于相邻拦水槽之间;

微孔薄膜,贴合覆盖在生长基质和种子萌发基质的表面;

二次加筋网,在表面铺设二次加筋网。

2.一种使用高陡边坡植被恢复系统的方法,其特征在于,包括以下步骤:

1)挖拦水槽,沿水平方向分布于高陡边坡本体的表层上,该拦水槽的深度为2-3cm,宽度为3-6cm,相邻拦水槽的中心距为40-60cm;

2)拉加筋网,位于高陡边坡本体的表层,加筋网的抗拉强度≧200N/5cm,网孔直径为3-6cm;

3)填充生长基质,生长基质覆盖在高陡边坡本体的表层,其厚度为5-10cm;

4)密布种子萌发基质与种子萌发孔,种子萌发基质纵向条状镶嵌于生长基质中,位于相邻拦水槽之间,种子萌发孔的直径为1-2cm,种子萌发孔分布在种子萌发基质内;

5)铺微孔薄膜,贴合覆盖在生长基质和种子萌发基质的表面,该微孔薄膜的开孔密度为2万个-5万个/m2,开孔的直径为1-2mm底部。

3.根据权利要求1所述的高陡边坡植被恢复系统及其方法,其特征在于,所述生长基质包括草炭、蛭石、珍珠岩、细胞分裂剂、氯化铵;其中草炭50-60份、蛭石20-30份、珍珠岩5-10份、细胞分裂剂4-8份、氯化铵5-8份。

4.根据权利要求1所述的使用高陡边坡植被恢复系统的方法,其特征在于,所述种子萌发基包括草炭、蛭石、珍珠岩、营养基体,其中草炭20-30份、蛭石10-18份、珍珠岩3-4份、营养基体15-20份。

5.根据权利要求1所述的使用高陡边坡植被恢复系统的方法,其特征在于,所述步骤2)中,标记锚杆位置,进行钻孔作业,插入锚杆,锚杆顶部弯折,并灌注锚固剂进行固定;坡面铺设高强加筋网,并固定于锚杆上。

6.根据权利要求1所述的使用高陡边坡植被恢复系统的方法,其特征在于,所述步骤4)中,种子萌发孔的直径为1-2cm。

7.根据权利要求1所述的使用高陡边坡植被恢复系统的方法,其特征在于,所述步骤5)中,微孔薄膜边部设有安装环,并通过安装环固定在坡面预留锚杆上。

8.根据权利要求1或4所述的使用高陡边坡植被恢复系统的方法,其特征在于,所述步骤5)中,进行二次挂网,在表面铺设二次加筋网,使微孔薄膜紧贴坡面,并固定于锚杆上,所述加筋网为镀锌铁丝网,网目尺寸:80*120mm,抗拉强度≥380Mpa。

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