[发明专利]一种阵列基板及其制作方法、显示装置有效
申请号: | 201610052350.1 | 申请日: | 2016-01-26 |
公开(公告)号: | CN105425471B | 公开(公告)日: | 2018-10-23 |
发明(设计)人: | 张振宇;廖燕平;胡巍浩;夏天宇 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
主分类号: | G02F1/13357 | 分类号: | G02F1/13357 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 阵列 及其 制作方法 显示装置 | ||
1.一种阵列基板,包括:衬底、以及设置在所述衬底出光侧的不透明图案,其特征在于,还包括:与所述不透明图案对应、且设置在所述衬底入光侧的透明微结构,所述透明微结构用于通过折射改变照在其背光侧表面上的光线的路径;
所述阵列基板还包括:设置在所述衬底和所述透明微结构之间的反射层。
2.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述透明微结构为微棱镜或微透镜。
3.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述阵列基板还包括:设置在所述衬底的入光侧且覆盖所述透明微结构的透明层,其中,所述透明层的折射率和所述透明微结构的折射率不同。
4.根据权利要求3所述的阵列基板,其特征在于,在所述透明微结构为凸透镜的情况下,所述透明微结构的折射率小于所述透明层的折射率;在所述透明微结构为凹透镜的情况下,所述透明微结构的折射率大于所述透明层的折射率。
5.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述不透明图案为栅线和数据线,所述透明微结构与所述栅线和/或所述数据线对应。
6.根据权利要求3所述的阵列基板,其特征在于,所述反射层的材料为金属,所述透明微结构和所述透明层的材料均为光阻。
7.一种显示装置,包括:背光源和显示面板,所述背光源包括:发光组件和反射片,其中,所述反射片位于所述发光组件中远离所述显示面板的一侧,其特征在于,所述显示面板包括:权利要求1-6任一项所述的阵列基板。
8.一种阵列基板的形成方法,其特征在于,所述方法包括:
在衬底上形成透明微结构,所述透明微结构与所述衬底上的不透明图案对应、且设置在所述衬底入光侧,所述透明微结构用于通过折射改变照在其背光侧表面上的光线的路径;
在所述衬底和所述透明微结构之间形成反射层。
9.根据权利要求8所述的方法,其特征在于,在衬底上形成透明微结构之后,所述方法还包括:
在所述衬底的入光侧形成覆盖所述透明微结构的透明层,其中,所述透明层的折射率和所述透明微结构的折射率不同。
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