[发明专利]一种基底表面浸润性调控的方法

权利要求书

1.一种表面浸润性调控的方法，包括以下步骤：

A)，将基底浸渍于含烯基的硅烷的有机溶液中，反应后得到具有疏水涂层的基底；所述基底为纯棉织物；

B)，将步骤A)得到的基底浸润点击反应溶液后，在紫外光照射条件下反应，得到具有亲水涂层的基体；所述点击反应溶液为光引发剂与含亲水基团的巯基衍生物的有机溶液；

重复步骤A)，

或依次重复步骤A)和步骤B)；

所述基底为纯棉织物时，所述步骤A)之前还包括：

将纯棉织物依次经过丙酮、乙醇与去离子水超声清洗。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述含烯基的硅烷选自乙烯基三氯硅烷、烯丙基三氯硅烷和5-己烯基三氯硅烷的一种或多种；所述含亲水基团的巯基衍生物选自3-巯基丙酸、2-巯基乙醇、2-巯基乙胺和2-巯基烟酸中的一种或多种。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述含烯基的硅烷的有机溶液的配制过程中具体为：

将甲苯与水混合后超声，再加入含烯基的硅烷，静置；

所述点击反应溶液的配制过程中具体为：

将四氢呋喃、2，2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮与含亲水基团的巯基衍生物混合后超声。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，步骤A)中所述反应的时间为3～4h，所述反应的温度为20～40℃。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，步骤B)具体为：

将步骤A)得到的基底浸润于点击反应溶液中，取出基底面向紫外光源，反应后得到具有亲水涂层的基底。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述紫外光的光照强度为0.8W/m2～100W/m2，光照时间为10s～50min。