[发明专利]碱水可溶性光固化树脂及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201610051563.2 申请日: 2016-01-26
公开(公告)号: CN105542124A 公开(公告)日: 2016-05-04
发明(设计)人: 王俊峰;刘启升;杨遇春 申请(专利权)人: 深圳市容大感光科技股份有限公司
主分类号: C08G59/17 分类号: C08G59/17;C08G59/14;C08G81/00;C09D11/101;G03F7/004
代理公司: 北京北翔知识产权代理有限公司 11285 代理人: 钟守期;王媛
地址: 518103 广东省深圳市宝安区*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 碱水 可溶性 光固化 树脂 及其 制备 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种碱水可溶性光固化树脂及其制备方法,更具体而言, 涉及由含环氧基团的化合物与不饱和一元酸和/或二元酸反应然后再与一 元和/或二元酸酐反应得到的碱水可溶性光固化树脂及其制备方法。

背景技术

碱水可溶性光固化树脂为现代电子技术领域的重要材料,用于制 造印制电路板,并且在触摸屏的加工中也日益彰显重要的作用。

随着集成电路技术的发展及电子设备的高度集成化,印刷电路板 的制造不仅朝高密度、薄型化、细线化、尺寸稳定化发展,而且要求 低价格、高效率。

环氧化不饱和光固化碱水溶树脂由于其优异的耐化学性也被广泛 用于触摸屏的制造工艺中。环氧化合物和不饱和酸开环后再与酸酐进 行酯化反应制备碱水可溶性光固化脂的技术已经很成熟,例如公开号 CN1821874A“一种碱溶光敏树脂及其制备方法”,但按照这种传统方 式制备的聚合物存在两方面的缺陷:1.制备树脂的软化点低,硬度不 足;2.光固化成膜后在碱液中剥离困难。

随着碱水可溶性光固化树脂在电子制造业中被广泛应用,因而对 于环氧化不饱和碱水溶树脂的要求也越来越高,使得环氧化不饱和聚 合物的上述缺陷尤为明显。

发明内容

本发明旨在解决现有技术的问题。为此,本发明提供一种碱水可溶 性光固化树脂,其包含以下组分:

A.含有两个环氧基团的化合物,25-45%;

B.不饱和一元和/或二元酸,8-25%

C.催化剂,0.2-0.4%;

D.酸酐,8-25%;

E.溶剂,30-40%;

其中各组分基于组合物总重量计,且各组分的百分比总和为100%。

本发明的碱水可溶性光固化树脂还任选含有添加剂。

另一方面,本发明还提供制备碱水可溶性光固化树脂的方法,其 包括以下步骤:

a、含有两个环氧基团的化合物在溶剂中与不饱和一元和/或二元酸 在催化剂作用下后得到化合物Ⅰ;

b、化合物Ⅰ与酸酐反应得到碱水可溶性光固化树脂Ⅱ;

c、所述树脂II可任选地与含有两个环氧基团的化合物进行酯化反 应得到具有不饱和键及酸性基团的碱水可溶性光固化树脂。

所述碱水可溶性光固化树脂具有不饱和键、光固化后硬度高和耐 化学性好以及在碱水溶液(即碱性水溶液)中可快速剥离等性能。

具体实施方式

在本发明中,如无相反说明,则所有操作均在室温、常压实施。

在本发明中,“碱水可溶性”表示光固化树脂可以溶解在碱性水 溶液中的性质。

本发明提供一种碱水可溶性光固化树脂,其包含以下组分:

A.含有两个环氧基团的化合物,25-45%;

B.不饱和一元和/或二元酸,8-25%

C.催化剂,0.2-0.4%;

D.酸酐,8-25%;

E.溶剂,30-40%;

其中各组分基于组合物总重量计,且各组分的百分比总和为100%。

本发明的碱水可溶性光固化树脂还任选含有添加剂。

下面将详细阐述本发明碱水可溶性光固化树脂的各组分。

所述含有两个环氧基团的化合物,其可为双酚A系缩水甘油醚、 脂肪族环氧树脂、萘系缩水甘油醚、双环芴系缩水甘油醚、环状脂肪 类缩水甘油醚、多羟基酚系缩水甘油醚、含联苯基缩水甘油醚及含有 环氧基团的环氧活性稀释剂中的至少一种。其中,所述含有两个环氧 基团的化合物的用量为本发明所述树脂的总重量的25-45%。

所述含有两个环氧基团的化合物,更优选为高环氧值的环氧化合 物,例如双酚A型环氧树脂、脂肪族环氧树脂等,这些环氧树脂可单 独使用或两种以上混合使用。

所述不饱和一元和/或二元酸,其优选为C3-12不饱和一元或二元酸 (即含有3-12个碳原子的不饱和一元或二元酸),例如丙烯酸、甲基 丙烯酸、丁烯酸、戊烯酸、5-己烯酸、十一烯酸、亚甲基丁二酸、戊 烯二酸、富马酸、中康酸中的至少一种。其中,所述一元和/或二元酸 的用量为本发明所述树脂的总重量的8-25%。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市容大感光科技股份有限公司,未经深圳市容大感光科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201610051563.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top