[发明专利]一种光场重聚焦方法

权利要求书

1.一种光场重聚焦方法，其特征在于包括如下步骤：

S1、初始化，对于光场相机拍摄的原始图像，取出其对应的子孔径图，即每个微透镜的像；

其中原始像图中有N*N个子孔径图，且带有角度信息，其最大的分辨率由微透镜数目N决定，N是一个维度上的微透镜数目；

S2、记录位置信息，对取出的光场相机的子孔径图，记录其位置信息；

S3、第一次超分辨：按顺序取其中一张子孔径图，使用已经训练好的超分辨方法对其进行一次超分辨；然后继续对下一张子孔径图使用同样的方法进行超分辨，直到最后所有的子孔径图都经过该超分辨方法的处理；

S4、超分辨聚焦过程：对于经步骤S3处理后的子孔径图，利用其相邻位置的子孔径图的信息，使用超分辨重构方法，通过这一系列子孔径图来获得一张高分辨的重聚焦图。

2.如权利要求1所述的光场重聚焦方法，其特征是步骤S4包括：设光线L_F(x,y,u,v)在像距为α F处的重聚焦平面上的投射点坐标为(x,y)，此时该光线记为L_F(x,y,u,v)，利用下式得到在指定位置的重聚焦变换之后的子孔径图：

，

其中是变焦倍率，其中B_α表示投射矩阵，α表示变焦倍率，L_F(x,y,u,v)为四维光场函数，表示给定光线的光辐射量，则像面接收到的总辐射量为E_αF(x,y)。

3.如权利要求2所述的光场重聚焦方法，其特征是还包括：利用在步骤S2中已经记录了各子孔径图的位置信息，利用每个子孔径图相邻位置的子孔径图的信息，来超分辨该子孔径图。

4.如权利要求3所述的光场重聚焦方法，其特征是：步骤S4中的超分辨方法是基于贝叶斯估计的算法处理超分辨的最大后验估计方法MAP，给出观察模型和一些的低分辨率图，寻找最大后验概率的未知高分辨率图。

5.如权利要求3所述的光场重聚焦方法，其特征是：步骤S4中通过这一系列子孔径图来获得一张高分辨的重聚焦图，该步骤中超分辨利用的是相邻位置的子孔径图的信息，属于多对一模式。