[发明专利]曝光装置

说明书

本发明提供一种曝光装置，包括显示器和位于所述显示器下方的凸透镜组件，所述显示器出射的光源经所述凸透镜组件射出，照射到待曝光膜上，以使所述待曝光膜经曝光后形成有所述显示器显示的图案。本发明中，以显示器作为曝光装置的光源，曝光时，将所需图案显示在显示器上，经过凸透镜组件的转化，在待曝光膜上即可形成所需图案。经过凸透镜组件转化投影到待曝光膜上的图案具有高像素密度，可满足待曝光膜上的图案的要求。如此，无需掩膜版即可在待曝光膜上形成所需图案，节省了生产成本，同时无需更换掩膜版，相应地也提高了曝光效率。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种曝光装置。

背景技术

曝光是微加工过程中一个必不可少的工艺，特别是在显示行业，无论是电路的刻蚀，还是彩色滤光片的制作，都与曝光密切相关。

目前的曝光技术，通常是在待曝光膜(例如光刻胶)上方设置掩膜版，使曝光光线通过掩膜版后照射到待曝光膜上，从而在待曝光膜上形成所需要的目标图案。此种曝光工艺的缺陷是：一种掩膜版对应一种图案，更换图案需要更换掩膜版。制作掩膜版的成本非常高，并且更换掩膜版会占用大量的时间，从而影响曝光效率。

发明内容

本发明提供一种曝光装置，不需要掩膜版即可在待曝光膜上形成所需图案，可节省生产成本，以及提高曝光效率。

本发明提供一种曝光装置，包括显示器和位于所述显示器下方的凸透镜组件，所述显示器出射的光源经所述凸透镜组件射出，照射到待曝光膜上，以使所述待曝光膜经曝光后形成有所述显示器显示的图案。

其中，所述显示器为高像素密度的显示器。

其中，所述凸透镜组件包括至少一个凸透镜。

其中，所述凸透镜组件包括至少两个沿纵向方向间隔设置的凸透镜。

其中，所述凸透镜组件包括至少一个凸透镜，所述曝光装置还包括至少一个光栅结构，每一所述光栅结构位于一个凸透镜的下方。

其中，所述曝光装置还包括壳体，所述凸透镜组件设置于所述壳体内。

其中，所述凸透镜组件及所述至少一个光栅结构设置于所述壳体内。

其中，所述壳体的内侧壁为黑色。

本发明中，以显示器作为曝光装置的光源，曝光时，将所需图案显示在显示器上，经过凸透镜组件的转化，在待曝光膜上即可形成所需图案。经过凸透镜组件转化投影到待曝光膜上的图案具有高像素密度，可满足待曝光膜上的图案的要求。如此，无需掩膜版即可在待曝光膜上形成所需图案，节省了生产成本，同时无需更换掩膜版，相应地也提高了曝光效率。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明第一实施方式中曝光装置的结构示意图；

图2为本发明实施方式中在待曝光膜上形成所需图案的示意图；以及

图3为本发明第二实施方式中曝光装置的结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。