[发明专利]一种表带制造方法及表带

权利要求书

1.一种表带制造方法，其特征在于，包括：

分别生产加工表带的表面层和基底层；

将所述表面层的一侧制作为粗糙面；

将所述表面层的粗糙面一侧和所述基底层复合形成表带材料；

加工所述表带材料得到表带。

2.根据权利要求1所述的表带制造方法，其特征在于，所述将所述表面层 的一侧制作为粗糙面包括：

将所述表面层的一侧通过打磨的方式制作为粗糙面；或

将所述表面层的一侧通过微放电的方式制作为粗糙面。

3.根据权利要求1所述的表带制造方法，其特征在于，所述将所述表面层 的粗糙面一侧和所述基底层复合形成表带材料包括：

将所述表面层的粗糙面一侧和所述基底层通过固态硅胶复合方式形成表带 材料；或

将所述表面层的粗糙面一侧和所述基底层通过液态硅胶复合方式形成表带 材料；或

将所述表面层的粗糙面一侧和所述基底层通过TPSIV材质复合方式形成表 带材料；或

将所述表面层的粗糙面一侧和所述基底层通过粘接、缝制、热压或互嵌方 式形成表带材料。

4.根据权利要求3所述的表带制造方法，其特征在于，所述将所述表面层 的粗糙面一侧和所述基底层通过固态硅胶复合方式形成表带材料包括：

将所述表面层放入模具的模腔内，所述表面层的粗糙面一侧朝向模腔内预 留的空间；

将固态硅胶放入所述模腔内预留的空间；

将所述模具温度升至80至250℃，持续0.6至4分钟，使所述硅胶硫化成 型与所述粗糙面紧密复合形成表带材料。

5.根据权利要求3所述的表带制造方法，其特征在于，所述将所述表面层 的粗糙面一侧和所述基底层通过液态硅胶复合方式形成表带材料包括：

将所述表面层放入模具的模腔内，所述表面层的粗糙面一侧朝向模腔内预 留的空间；

将液态硅胶注入所述模腔内预留的空间；

将所述模具温度升至140至240℃，持续0.4至2分钟，使所述液态硅胶 固化成型与所述粗糙面紧密复合形成表带材料。

6.根据权利要求3所述的表带制造方法，其特征在于，所述将所述表面层 的粗糙面一侧和所述基底层通过TPSIV材质复合方式形成表带材料包括：

将所述表面层放入模具的模腔内，所述表面层的粗糙面一侧朝向模腔内预 留的空间；

将TPSIV材料注入所述模腔内预留的空间；

将所述模具温度升至150至220℃，持续10至80秒，使所述TPSIV材料 固化成型与所述粗糙面紧密复合形成表带材料。

7.根据权利要求1所述的表带制造方法，其特征在于，所述加工所述表带 材料得到表带包括：

裁剪所述表带材料并进一步定型形成表带；

加装单面或双面表扣。

8.一种采用如权利要求1至7任一项表带制造方法制作的表带，其特征在 于，所述表带由表面层和基底层复合而成。

9.根据权利要求8所述的表带，其特征在于，所述基底层使用的材料包括 硅胶和TPSIV。

10.根据权利要求8所述的表带，其特征在于，所述表面层使用的材料包 括金属、尼龙、陶瓷、帆布、碳纤维、纳米和皮革。