[发明专利]一种Ni-Cr-SiO2

权利要求书

1.一种Ni-Cr-SiO2纳米复合镀层的电镀方法，步骤如下：

以石墨为阳极、铁为阴极，利用电镀液采用脉冲电沉积的方式电镀；电镀条件：脉冲频率5-15Hz，脉冲占空比40-60%，电流密度10-30 A /dm2，电镀温度20-35℃，电镀时间40-100min，pH=2-3；

所述的电镀液包括如下成分的浓度组成：

CrCl3∙6H2O 70-80g/L，NiSO4∙6H2O 40-60g/L，NiCl2∙6H2O 40-50g/L，NH4Cl 40-60g/L，H3BO3 40-60g/L，十二烷基磺酸钠 0.1-0.3g/L，柠檬酸 120-140g/L，SiO2 10-20g/L；

所述的纳米复合镀层包括如下成分及其质量百分含量：

Ni 72.00 - 88.00%、Cr 10.00 - 20.00%、SiO2 1.00 - 5.00%，余量为不可避免的杂质；

所述的Ni-Cr-SiO2纳米复合镀层组分晶粒的平均粒径为16-19nm；

所述的Ni-Cr-SiO2纳米复合镀层的显微硬度为1000-1329Hv；

所述的Ni-Cr-SiO2纳米复合镀层在3.5 wt.% NaCl溶液中的交流阻抗为4380-6997Ω/cm2。

2.根据权利要求1所述的Ni-Cr-SiO2纳米复合镀层的电镀方法，其特征在于，所述的纳米复合镀层包括如下成分及其质量百分含量：

Ni 80.00 - 83.00%、Cr 12.00 - 16.00%、SiO2 3.50 - 5.00%，余量为不可避免的杂质。

3.根据权利要求1所述的Ni-Cr-SiO2纳米复合镀层的电镀方法，其特征在于，所述纳米复合镀层包括如下成分及其质量百分含量：

Ni 82.95%、Cr 12.21%、SiO2 4.82%，余量为不可避免的杂质。

4.根据权利要求1所述的Ni-Cr-SiO2纳米复合镀层的电镀方法，其特征在于，所述电镀液包括如下成分的浓度组成：

CrCl3∙6H2O 75 g/L，NiSO4∙6H2O 50g/L，NiCl2∙6H2O 45g/L，NH4Cl 50g/L，H3BO3 50g/L，十二烷基磺酸钠 0.2g/L，柠檬酸 130g/L，SiO2 15g/L。