[发明专利]一种在医用植入材料表面制备无毒法抗菌涂层的方法

权利要求书

1.一种在医用植入材料表面制备无毒法抗菌涂层的方法，其特征在于包括以下步骤：

1)将待处理的医用植入材料预处理；

2)配制含AgNO₃、丙谷二肽和电解质或还原性物质的溶液，在医用植入材料表面构筑纳米银/丙谷二肽复合膜层；

所述在医用植入材料表面构筑纳米银/丙谷二肽复合膜层采用脉冲电沉积法、银镜反应、紫外光还原法或多巴胺还原法在医用植入材料表面构筑纳米银/丙谷二肽复合膜层；

所述脉冲电沉积法的具体步骤为：电解液含AgNO₃ 0.001～0.1mol/L和NaNO₃ 0.001～0.1mol/L/L，丙谷二肽的摩尔浓度为0.001～1mol/L，以待处理基底为工作电极，铂片为对电极，脉冲电流密度为1～50mA/cm²，电流通断比为0.1/0.3，脉冲圈数为10～1000圈；

所述银镜反应的具体步骤为：现配银氨溶液，在银氨溶液中添加摩尔浓度为0.1～10mol/L葡萄糖溶液，得混合溶液，银氨溶液与葡萄糖溶液的体积比为5∶3，丙谷二肽的摩尔浓度为0.001～1mol/L，将待处理基底浸入混合溶液中，反应后用去离子水冲洗、晾干，反应时间为1～60min；

所述紫外光还原法的具体步骤为：配制含AgNO₃和丙谷二肽的混合溶液，所述AgNO₃溶液的摩尔浓度为0.001～1mol/L，丙谷二肽的摩尔浓度为0.001～1mol/L，将待处理基底浸入混合溶液中，用去离子水冲洗、晾干，浸泡1～30min，取出后放在汞灯下照射，条件为：功率200W，100mW/cm²，光照时间为10～60min；

所述多巴胺还原法的具体步骤为：以Tris-HCl缓冲液配制质量浓度为0.01～2.0mg/ml的多巴胺溶液，pH为8～10；配制AgNO₃/丙谷二肽溶液，AgNO₃的摩尔浓度为0.01～1mol/L，丙谷二肽的摩尔浓度为0.001～1mol/L，将阳极氧化后的钛或钛合金浸入多巴胺溶液进行多巴胺聚合反应，震荡或搅拌1～48h，用去离子水冲洗、晾干，再浸入AgNO₃/丙谷二肽溶液进行银还原反应，震荡或搅拌，还原反应时间为1～48h，用去离子水冲洗、晾干。

2.如权利要求1所述一种在医用植入材料表面制备无毒法抗菌涂层的方法，其特征在于在步骤1)中，所述医用植入材料包括医用植入金属、医用陶瓷、医用高分子材料；所述医用植入金属包括钛、钛合金、不锈钢。

3.如权利要求1所述一种在医用植入材料表面制备无毒法抗菌涂层的方法，其特征在于在步骤1)中，所述预处理是采用砂纸对待处理的医用植入材料表面逐级打磨去除氧化膜，再依次浸泡于丙酮、乙醇、去离子水中超声除油清洗后，干燥。

4.如权利要求1所述一种在医用植入材料表面制备无毒法抗菌涂层的方法，其特征在于在步骤2)中，所述电解质选自NaNO₃；所述还原性物质选自葡萄糖、多巴胺中的一种。