[发明专利]一种基于自燃烧的低温制备氧化铪介质层的方法在审
| 申请号： | 201610022644.X | 申请日： | 2016-01-14 |
| 公开（公告）号： | CN105540662A | 公开（公告）日： | 2016-05-04 |
| 发明（设计）人： | 朱国栋;翁军辉 | 申请（专利权）人： | 复旦大学 |
| 主分类号： | C01G27/02 | 分类号： | C01G27/02;H01L21/324 |
| 代理公司： | 上海正旦专利代理有限公司 31200 | 代理人： | 陆飞;盛志范 |
| 地址： | 200433 *** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 基于 燃烧 低温 制备 氧化 介质 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种基于自燃烧的低温制备氧化铪介质薄膜的方法，其特征在于，在四氯化铪的乙醇溶液中添加柠檬酸作为燃烧剂，同时添加水和硝酸作为氧化剂，溶液旋涂成膜；然后在热处理温度高于220℃的条件下，使柠檬酸发生自燃烧，放出热量，以有效提高介质薄膜内部温度，从而在低于300℃的热处理温度下形成氧化铪薄膜。
2.根据权利要求1所述的基于自燃烧的低温制备氧化铪介质薄膜的方法，其特征在于，具体步骤如下：
（1）称取一定量的四氯化铪溶于无水乙醇中，四氯化铪和乙醇的摩尔比介于1:20到1:600之间；充分搅拌，获得四氯化铪的澄清溶液；
（2）在上述四氯化铪溶液中添加柠檬酸、水和硝酸，四氯化铪、水、硝酸、柠檬酸的摩尔比为：1:（4-8）:（4-6）:（4-6）；充分搅拌，混合均匀；
（3）采用旋涂法，将上述混合溶液旋涂在基片上，经多次旋涂，获得不同厚度的薄膜；
（4）大气环境下，对所得薄膜进行退火处理，退火时间1小时以上，退火温度介于220℃和300℃之间。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于复旦大学，未经复旦大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201610022644.X/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
