[发明专利]用于确定容器中的介质的料位的方法

权利要求书

1.用于确定容器（3）中的介质（2）的料位的方法，

其特征在于，

多个发射装置（6）被加载电磁信号并且关于介质（2）的料位分析至少一部分发射装置（6）的发射行为。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在分析发射行为时确定至少一个针对阻抗匹配的度量。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，确定和分析阻抗匹配的度量的时间行为。

4.根据权利要求2或3所述的方法，其特征在于，从至少两个发射装置（6）的发射行为通过以下方式确定介质（2）接近可预先给定的料位，即对于至少两个发射装置（6）分别确定阻抗匹配的度量并且根据相应改变的时间点来分析所确定的度量。

5.根据权利要求1至4之一所述的方法，其特征在于，通过以下方式在冗余的意义上分析至少两个发射装置（6）的发射行为，即关于共同的料位和/或共同的料位区域来分析至少两个发射装置（6）的发射行为。

6.根据权利要求1至5之一所述的方法，其特征在于，自由配置，共同或分开地分析哪些发射装置（6）的发射行为。

7.根据权利要求1至6之一所述的方法，其特征在于，通过以下方式进行校准，即确定各个发射装置（6）的发射行为改变的时间序列。

8.根据权利要求1至7之一所述的方法，其特征在于，为了分析至少一部分发射装置（6）的发射行为，发射行为在学习模式中被研究，其中在学习模式中至少为发射装置（6）的所述部分单独地分析相应的发射行为并且其中从至少一个所选择的发射装置（6）的发射行为出发进行其他发射装置（6）的发射行为的评价。

9.根据权利要求1至8之一所述的方法，其特征在于，发射装置（6）相对于容器（3）被固定，使得至少两个发射装置（6）分别被分配介质（2）的不同的料位，其中介质（2）在达到相应的料位时引起被分配给所述料位的发射装置（6）的发射行为的改变。

10.根据权利要求1至9之一所述的方法，其特征在于，发射装置（6）相对于容器（3）被固定，使得至少两个发射装置（6）分别基本上被分配介质（2）的相同的料位或相同的料位区域，其中介质（2）在达到所述料位或料位区域时引起被分配给所述料位或料位区域的至少两个发射装置（6）的发射行为的改变。

11.根据权利要求1至10之一所述的方法，其特征在于，从至少一个发射装置（6）的发射行为的时间变化确定关于发射装置（6）的状态―特别是污染或老化的程度―的结论并且所述结论在确定介质（2）的料位时被使用。

12.根据权利要求1至11之一所述的方法，其特征在于，关于介质（2）的至少一个特性分析至少一个发射装置（6）的发射行为。

13.根据权利要求12所述的方法，其特征在于，从至少一个发射装置（6）的谐振频率出发确定关于介质（2）的介电常数的结论。

14.根据权利要求12或13所述的方法，其特征在于，在不同的发射装置（6）的不同的谐振频率的情况下获得关于介质（2）中存在分离层（21）的结论。

15.根据权利要求14所述的方法，其特征在于，通过以下方式确定分离层（21）的高度，即从至少两个分别被分配给不同料位的发射装置（6）的发射行为出发，确定相应的料位被介质（2）达到、确定达到相应的料位之间的第一时长、从第一时长和从分配给所述两个发射装置（6）的料位之间的已知的料位间隔来确定填充速度并且针对所述两个发射装置（6）之一确定达到被分配给所述发射装置（6）的料位和所述发射装置（6）的谐振频率改变之间的第二时长。