[发明专利]一种热冲击气化电喷雾电离源及质谱分析系统

权利要求书

1.一种热冲击气化电喷雾质谱电离源，包括电喷雾发生装置、加热装置和进样装置，其特征在于，所述电喷雾发生装置的电喷雾喷口(14)与质谱仪入口(4)相对且有一定距离；所述加热装置位于电喷雾喷口(14)和质谱仪入口(4)对应距离的下方，包括设有朝上出口的气化室(32)和为气化室(32)提供热量的加热器(31)；所述进样装置包括样品管(21)，样品管(21)的入口端设有样品接头(22)和气体接头(23)，出口端设有样品喷口(24)，样品喷口(24)穿过气化室(32)指向气化室的受热部位。

2.根据权利要求1所述热冲击气化电喷雾质谱电离源，其特征在于，所述一定距离是3-20cm。

3.根据权利要求1所述热冲击气化电喷雾质谱电离源，其特征在于，所述加热器(31)位于气化室(32)的下部，所述气化室的受热部位是气化室底部(33)，样品喷口(24)距离气化室底部(33)的距离为1-20mm。

4.根据权利要求1所述热冲击气化电喷雾质谱电离源，其特征在于，所述气化室(32)由铁、铜、铝、不锈钢金属材料或陶瓷材料制成；所述样品管(21)由玻璃或金属制成。

5.根据权利要求1所述热冲击气化电喷雾质谱电离源，其特征在于，所述加热器(31)的加热范围为60-1000℃。

6.根据权利要求1所述热冲击气化电喷雾质谱电离源，其特征在于，所述电喷雾喷口(14)和质谱仪入口(4)的连线与气化室(32)的轴线相交。

7.一种包含权利要求1-6任一所述热冲击气化电喷雾质谱电离源的质谱分析系统，其特征在于，还包括质谱仪和质谱数据处理系统，其中，溶剂引入接头(13)与peek管连接引入流速为1-5μL/min的喷雾溶剂；所述气体接头(23)中通有流速为0～3L/min的辅助气体；所述质谱仪与质谱数据处理系统连接。

8.根据权利要求7所述质谱分析系统，其特征在于，还包括三维组合位移台和垂直旋转台，电喷雾发生装置和加热装置分别固定在三维组合位移台上，进样装置安装在垂直面可在0-90度范围旋转的垂直旋转台上，垂直旋转台安装在三维组合位移台上。

9.根据权利要求7所述质谱分析系统，其特征在于，所述辅助气体是氮气、氩气、二氧化碳或空气中的一种。