[发明专利]处理液过滤装置、药液供给装置和处理液过滤方法

说明书

技术领域

本发明涉及对从药液供给源经由药液流路和喷嘴对被处理体供给 药液的药液供给装置中所使用的处理液进行过滤的技术。

背景技术

在半导体制造步骤中使用的单片式液处理装置，例如构成为从喷 嘴对保持于旋转卡盘的被处理体的表面排出药液。作为药液能够列举 用于形成抗蚀剂图案的抗蚀剂液、用于使露光后的基板显影的显影液 或者包含氧化硅膜的前驱物质的涂敷液等。这样的药液从药液供给源 利用在中途设置有阀、过滤器、泵等装置的药液流路经由喷嘴供给到 被处理体。

伴随近年来电路的精细化，进一步要求缺陷数量的降低，对于抗 蚀剂液等药液、包含配管和装置的药液流路要求较高的清洁度。作为 从药液除去颗粒和气泡等异物来提高清洁度的技术，例如在专利文献1 中记载有如下结构：在连接处理液贮存容器和喷嘴的供给管路设置有 过滤装置和泵，并且设置有连接泵的排出侧和过滤装置的吸入侧的循 环管路。在该结构中，利用泵的驱动，经由循环管路对过滤装置循环 供给处理液来从处理液除去异物，但是，利用泵进行的液体的移动量 为数ml/数十sec程度，耗费时间。

因此，为了进一步提高药液的清洁度，如果要增加由过滤装置进 行的过滤次数则需要长时间使处理液循环，可能大幅增加作业时间。 为了实现作业时间的缩短，也考虑增加送液量，但是因为泵变得大型， 所以不优选。此外，由于在泵附近设置有循环管路，所以处理液的排 出系统复杂化，处理液的通流控制变得复杂。由于这样，所以寻求处 理液的消費量少且能够在短时间内进行作业，并且实现处理液的排出 系统的简单化的清洁化技术。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2013-211525号公报

发明内容

发明想要解决的技术问题

本发明是基于这样的情况而完成的，其目的在于提供一种在对从 药液供给源经由药液流路和喷嘴向被处理体供给药液的药液供给装置 中所使用的处理液进行过滤时，能够实现缩短作业时间的技术。

用于解决技术问题的技术方案

因此，本发明的处理液过滤装置，其是对处理液进行过滤的装置， 上述处理液是从药液供给源经由药液流路和喷嘴对被处理体供给药液 的药液供给装置中所使用的上述药液或者将上述药液流路清洗的清洗 液，所述处理液过滤装置的特征在于，包括：分别用于贮存上述处理 液的第一密闭容器和第二密闭容器；对上述第一密闭容器的气相部进 行减压的第一减压部；对上述第二密闭容器的气相部进行减压的第二 减压部；用于从上述第一密闭容器对上述第二密闭容器输送处理液的 第一处理液流路；用于从上述第二密闭容器对上述第一密闭容器输送 处理液的第二处理液流路；和设置在上述第一处理液流路和第二处理 液流路中的至少一者、用于除去处理液中的异物的过滤器部。

本发明的药液供给装置，是利用送液机构将来自药液供给源的药 液经由药液流路和喷嘴供给到被处理体的药液供给装置，该药液供给 装置的特征在于，包括：

上述处理液过滤装置和用于将由上述处理液过滤装置过滤后的处 理液供给到上述药液流路的处理液供给通路。

本发明的处理液过滤方法，是对处理液进行过滤的方法，上述处 理液是从药液供给源经由药液流路和喷嘴对被处理体供给药液的药液 供给装置中所使用的上述药液或者将上述药液流路清洗的清洗液，所 述处理液过滤方法的特征在于：

使用第一密闭容器和第二密闭容器，

所述处理液过滤方法包括：

通过对上述第二密闭容器的气相部进行减压，而从第一密闭容器 经由第一处理液流路对上述第二密闭容器送出处理液的步骤；通过对 上述第一密闭容器的气相部进行减压，而从第二密闭容器经由第二处 理液流路对上述第一密闭容器送出处理液的步骤；和当上述处理液在 上述第一处理液流路和第二处理液流路中的至少一者中流动时，利用 过滤器部除去处理液中的异物的步骤。

本发明的存储介质，其存储计算机程序，该计算机程序是对处理 液进行过滤的装置中所使用的程序，上述处理液是从药液供给源经由 药液流路和喷嘴对被处理体供给药液的药液供给装置中使用的上述药 液或者将上述药液流路清洗的清洗液，所述存储介质的特征在于：上 述计算机程序编写有步骤组，来实施上述处理液过滤方法。

发明的效果