[发明专利]增亮膜及其制备方法

权利要求书

1.一种增亮膜，其特征在于，包括：

基材(100)；

聚光层(200)，设置在所述基材(100)的上表面上，所述聚光层(200)由多个聚 光结构构成，所述聚光结构具有与所述基材(100)的上表面相接触的底面，且所述聚光 层(200)的上表面具有凹凸结构；以及

折射层(300)，设置在所述聚光层(200)的上表面上，所述折射层(300)的上表 面具有与所述聚光层(200)上表面的凹凸结构相适配的凹凸结构；

其中，形成所述折射层(300)的原料包括无机纳米粒子组合物和挥发性溶剂，所述 无机纳米粒子组合物包括无机纳米粒子、第一稀释单体、第一光引发剂以及第一表面助 剂。

2.根据权利要求1所述的增亮膜，其特征在于，按重量百分比计，所述无机纳米粒子组合 物包括20～70％的所述无机纳米粒子、20～70％的所述第一稀释单体、1～10％的所述第一光 引发剂以及0.1～1％的所述第一表面助剂。

3.根据权利要求2所述的增亮膜，其特征在于，所述无机纳米粒子选自氧化锆、氧化锡、 氧化硅、氧化锑及氧化铝中的一种或多种；优选地，所述无机纳米粒子为表面接枝有烯 键或环氧键的改性纳米粒子。

4.根据权利要求3所述的增亮膜，其特征在于，所述第一稀释单体选自丙烯酸单体，优选 地，所述丙烯酸单体选自丙烯酸2-苯氧基乙基酯、1,6-己二醇二丙烯酸酯、二丙二醇二丙 烯酸酯、乙氧化双酚A二丙烯酸酯及三羟甲基丙烷三丙烯酸酯中的一种或多种。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的增亮膜，其特征在于，所述第一表面助剂选自流变 助剂、消泡剂、抗氧剂及稳定剂中的一种或多种；

优选地，所述流变助剂选自BYK-410、BYK-420、BYK-333及BYK-3505中的一种 或多种；

优选地，所述消泡剂选自BYK-378、BYK-3500及BYK-1790中的一种或多种；

优选地，所述抗氧剂选自T-400和/或ChinoxTP-10H；

优选地，所述稳定剂选自Chisorb292、CHISORB523、CHISORB718、CHISORB 3525中的一种或多种。

6.根据权利要求1至4中任一项所述的增亮膜，其特征在于，所述折射层(300)的厚度均 一；优选所述折射层(300)的厚度为1～3μm。

7.根据权利要求1至4中任一项所述的增亮膜，其特征在于，形成所述聚光层(200)的原 料为光固化树脂组合物，按重量份计，所述光固化树脂组合物包括30～80份的低聚物组 分、20～70份的第二稀释单体、1～10份的第二光引发剂和0.1～2份的第二表面助剂；

优选地，所述低聚物组分选自环氧丙烯酸树脂、氨基改性丙烯酸树脂、聚乙烯改性 丙烯酸树脂、聚氨酯丙烯酸树脂及聚酯丙烯酸树脂中的一种或多种；

优选地，所述第二稀释性单体为己二醇二丙烯酸酯和/或乙氧化双酚A二丙烯酸酯。

8.根据权利要求7所述的增亮膜，其特征在于，所述光固化树脂组合物的液态折射率为 1.58～1.65。

9.根据权利要求1所述的增亮膜，其特征在于，形成所述基材(100)的材料为高分子聚合 物树脂，优选所述高分子聚合物树脂选自聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、聚萘二甲 酸乙二酯、环烯烃共聚物、聚芳酯、聚醚砜、三醋酸纤维素或聚甲基丙烯酸甲酯。

10.一种权利要求1至9中任一项所述的增亮膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

在基材(100)的上表面上形成由多个聚光结构构成的聚光层(200)；

利用雾化喷涂的方式将作为折射层(300)的原料的纳米粒子待固化浆料喷涂在所述 聚光层(200)的上表面上，干燥后，在辐照强度为400～800MJ/cm²的紫外光下进行光固 化处理，形成上表面具有与所述聚光层(200)上表面相适配的凹凸结构的所述折射层 (300)；其中，所述纳米粒子待固化浆料包括无机纳米粒子组合物与挥发性溶剂，所述 无机纳米粒子组合物包括无机纳米粒子、第一稀释单体、第一光引发剂以及第一表面助 剂。