[发明专利]一种硒化镉或硫化镉二维单晶纳米片的制备方法在审

专利信息
申请号: 201610008705.7 申请日: 2016-01-07
公开(公告)号: CN105463580A 公开(公告)日: 2016-04-06
发明(设计)人: 孟祥敏;朱丹丹;夏静;王磊;李玄泽 申请(专利权)人: 中国科学院理化技术研究所
主分类号: C30B29/48 分类号: C30B29/48;C30B29/50;C30B29/64;C30B25/18
代理公司: 北京正理专利代理有限公司 11257 代理人: 张文祎;赵晓丹
地址: 100190 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 硒化镉 硫化 二维 纳米 制备 方法
【说明书】:

发明公开一种硒化镉或硫化镉二维单晶纳米片的制备方法。该方法采用范德华外延生长技术制备CdSe或CdS二维单晶纳米片,此方法的特征是采用表面光滑且无化学悬键的云母片为衬底,以CdCl2粉末、Se粉或S粉为源材料,氩气为载气,在高温条件下CdCl2蒸气与Se或S蒸气反应形成CdSe或CdS蒸气,然后沉积到云母片上形核并外延生长成为CdSe或CdS二维单晶纳米片。该法操作简单、成本较低、可控性强,获得的CdSe或CdS具有尺寸均匀性好、结晶度高等优点,在太阳能电池、场效应晶体管、光电探测器、光催化等领域具有重要的研究价值和广泛的应用前景。

技术领域

本发明涉及纳米半导体技术领域。更具体地,涉及一种大面积硒化镉(CdSe)和硫化镉(CdS)二维单晶纳米片的制备方法。

背景技术

近年来,二维纳米材料以其独特的结构和物理化学特性引起了全球范围内的研究热潮,在基础研究和工业生产领域均展现出了巨大的应用潜力。目前研究最广泛的二维材料主要是以石墨烯和过渡金属硫族化合物为主的层状材料。石墨烯具有强度大、载流子迁移率高等优点,但本征石墨烯带隙为零,导致了基于其的场效应晶体管电流开关效率较低。层状的过渡金属硫族化合物与石墨烯结构相似,由于层间较弱的范德华作用力有利于将其剥离为超薄的二维纳米结构。过渡金属硫族化合物二维纳米材料所展现出来的性质在一定程度上弥补了石墨烯的不足,具有1-2eV可调控的带隙。例如二硫化钼、二硫化钨等,当其由块状变为单层形态时,其带隙会从间接带隙转变为直接带隙,这使得其在电子学和光电子学领域中有相当大的应用前景(Q.H.Wang,Kourosh Kalantar-Zadeh,Andras Kis,Jonathan N.Coleman and Michael S.Strano.Electronics and optoelectronics oftwo-dimensional transition metal dichalcogenides.Nature Nanotechnology,2012,7,699-712)。

然而,很多具有优异特性的非层状材料由于其晶体结构的局限性,缺少二维各向异性生长的驱动力,所以制备非层状材料的二维纳米结构具有很大的挑战性。近期的研究表明,非层状材料的二维结构制备获得了很大的进展。科学家们采用范德华外延技术先后制备出了碲、砷化镓、钙钛矿等材料的二维纳米片状结构(Q.S.Wang,M.Safdar,K.Xu,M.Mirza,Z.X.Wang,and J.He.Van der Waals Epitaxy and Photoresponse ofHexagonal Tellurium Nanoplates on Flexible Mica Sheets.ACS Nano,2014,8,7497-7505;Y.Alaskar,S.Arafin,D.Wickramaratne,M.A.Zurbuchen,L.He,J.McKay,Q.Lin,M.S.Goorsky,R.K.Lake,K.L.Wang.Towards van der Waals Epitaxial Growth of GaAson Si using a Graphene Buffer Layer.Adv.Funct.Mater.2014,24,6629-6638;Y.P.Wang,Y.F.Shi,G.Q.Xin,J.Lian,and J.Shi,Two-Dimensional van der WaalsEpitaxy Kinetics in a Three-Dimensional Perovskite Halide.Cryst.GrowthDes.2015,15,4741-4749.)。这些非层状材料二维纳米结构的成功制备丰富了二维材料的数据库,也为其在太阳能电池、晶体管、光电探测器等领域中的应用提供了可能。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院理化技术研究所,未经中国科学院理化技术研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201610008705.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top