[发明专利]液晶显示面板的像素结构及其制作方法

权利要求书

1.一种液晶显示面板的像素结构，其特征在于，包括：

一基板；

一开关组件以及一像素电极设置于所述基板上，且所述开关组件与所述像素电极电性连接；

一绝缘层设置于所述基板上，并覆盖所述开关组件以及所述像素电极，其中所述绝缘层包括多个沟槽；以及

一图案化共通电极设置于所述绝缘层上，其中所述图案化共通电极不覆盖所述多个沟槽。

2.如权利要求1所述的液晶显示面板的像素结构，其特征在于，所述开关组件包括:

一栅极；

一栅极绝缘层，设置于所述栅极上；

一半导体层，设置于所述栅极绝缘层上，并与所述栅极部分重叠；

一源极以及一漏极，设置于所述栅极绝缘层上，并部分覆盖所述半导体层;

一源极接触层，设置于所述半导体层与所述源极之间，且所述源极至少部分覆盖所述源极接触层；以及

一漏极接触层，设置于所述半导体层与所述漏极之间，且所述漏极至少部分覆盖所述漏极接触层，其中所述开关组件通过所述漏极与所述像素电极电性连接，且所述半导体层与所述像素电极位于同一平面。

3.如权利要求2所述的液晶显示面板的像素结构，其特征在于，所述栅极绝缘层设置于所述像素电极与所述基板之间。

4.如权利要求1所述的液晶显示面板的像素结构，其特征在于，所述多个沟槽的深度范围为500埃至2000埃。

5.如权利要求1所述的液晶显示面板的像素结构，其特征在于，所述图案化共通电极具有多个狭缝，且各所述狭缝分别对应各所述沟槽设置。

6.如权利要求5所述的液晶显示面板的像素结构，其特征在于，各所述狭缝的宽度实质上等于所对应的各所述沟槽的宽度。

7.如权利要求1所述的液晶显示面板的像素结构，其特征在于，各所述沟槽的宽度不完全相同。

8.如权利要求1所述的液晶显示面板的像素结构，其特征在于，所述等沟槽包括多个第一沟槽以及一第二沟槽，所述多个第一沟槽设于所述像素电极的上方，并与所述像素电极部分重叠，而所述第二沟槽设于所述开关组件的上方，并与所述开关组件部分重叠。

9.如权利要求8所述的液晶显示面板的像素结构，其特征在于，所述多个第一沟槽的宽度小于所述第二沟槽的宽度。

10.如权利要求8所述的液晶显示面板的像素结构，其特征在于，所述图案化共通电极包含多个分支电极，且所述多个分支电极分别设于相邻的所述多个沟槽之间。

11.如权利要求1所述的液晶显示面板的像素结构，其特征在于，所述绝缘层的材料包括无机绝缘材料。

12.一种液晶显示面板的像素结构的制作方法，其特征在于，包括：

提供一基板；

于所述基板上形成一开关组件以及一像素电极，其中所述开关组件与所述像素电极电性连接；

于所述基板上形成一绝缘层，且所述绝缘层覆盖所述开关组件以及所述像素电极；

于所述绝缘层上形成一共通电极层；

于所述共通电极层上形成一图案化光阻，其中所述图案化光阻包含多个不连续图案；

进行一第一蚀刻制程，利用所述图案化光阻作为蚀刻屏蔽而移除部分所述共通电极层，以形成一图案化共通电极；

进行一第二蚀刻制程，利用所述图案化光阻作为蚀刻屏蔽，移除所述绝缘层的部分表面，以于所述绝缘层中形成多个沟槽，其中所述图案化共通电极不覆盖所述多个沟槽；以及

移除所述图案化光阻。

13.如权利要求12所述的液晶显示面板的像素结构的制作方法，其特征在于，所述第一蚀刻制程另包括于所述共通电极层中形成多个狭缝，以形成所述图案化共通电极，且各所述狭缝对应各所述沟槽设置。

14.如权利要求13所述的液晶显示面板的像素结构的制作方法，其特征在于，各所述狭缝的宽度实质上等于所对应的各所述沟槽的宽度。

15.如权利要求12所述的液晶显示面板的像素结构的制作方法，其特征在于，各所述沟槽的宽度不完全相同。

16.如权利要求12所述的液晶显示面板的像素结构的制作方法，其特征在于，所述第一蚀刻制程包括湿蚀刻制程。