[发明专利]有机电致发光显示基板及其制作方法、显示装置

权利要求书

1.一种有机电致发光显示基板，包括衬底、设置在所述衬底上的第一像素界定层，所述第一像素界定层具有多个第一开口，其特征在于，所述有机电致发光显示基板还包括设置在所述第一像素界定层上的第二像素界定层，所述第二像素界定层具有多个第二开口，多个所述第一开口与多个所述第二开口一一对应，所述第二开口的边缘超过所述第一开口的边缘，以将所述第一像素界定层的一部分露出，所述第一开口与所述第二开口的长度差大于所述第一开口与所述第二开口的宽度差；

所述第一像素界定层被所述第二开口露出的部分包括：位于所述第一开口的沿其长度方向的两侧的两个第一露出部和位于所述第一开口的沿其宽度方向的两侧的两个第二露出部，其中一个所述第一露出部在第一开口长度方向上的尺寸大于任意一个所述第二露出部在第一开口宽度方向的尺寸，另一个所述第一露出部在第一开口长度方向上的尺寸不小于任意一个所述第二露出部在第一开口宽度方向的尺寸。

2.根据权利要求1所述的有机电致发光显示基板，其特征在于，两个所述第二露出部的宽度均在4～5μm之间。

3.根据权利要求1所述的有机电致发光显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括设置在所述衬底上的多个薄膜晶体管、覆盖所述薄膜晶体管的钝化层和设置在所述钝化层上的电极层，所述薄膜晶体管、所述钝化层和所述电极层均位于所述第一像素界定层和所述衬底之间，所述电极层包括多个像素电极，每个所述第一开口均对应一个像素电极和一个薄膜晶体管，所述钝化层上设置有过孔，所述像素电极通过所述过孔与相应的薄膜晶体管的漏极相连，

其中一个所述第一露出部在所述钝化层上的正投影覆盖所述过孔。

4.根据权利要求1至3中任意一项所述的有机电致发光显示基板，其特征在于，制成所述第一像素界定层的材料包括亲水材料，制成所述第二像素界定层的材料包括疏水材料。

5.根据权利要求1至3中任意一项所述的有机电致发光显示基板，其特征在于，所述第二像素界定层的厚度大于所述第一像素界定层的厚度。

6.一种显示基板的制作方法，其特征在于，包括：

形成第一像素界定材料层；

对所述第一像素界定材料层进行构图工艺，以形成具有多个第一开口的第一像素界定层；

形成第二像素界定材料层；

对所述第二像素界定材料层进行构图工艺，以形成具有多个第二开口的第二像素界定层，其中，多个所述第二开口与多个所述第一开口一一对应，所述第二开口的边缘超过所述第一开口的边缘，所述第二开口与所述第一开口的长度差大于所述第二开口与所述第一开口的宽度差；所述第一像素界定层被所述第二开口露出的部分包括：位于所述第一开口的沿其长度方向的两侧的两个第一露出部和位于所述第一开口的沿其宽度方向的两侧的两个第二露出部，其中一个所述第一露出部在第一开口长度方向上的尺寸大于任意一个所述第二露出部在第一开口宽度方向的尺寸，另一个所述第一露出部在第一开口长度方向上的尺寸不小于任意一个所述第二露出部在第一开口宽度方向的尺寸。

7.根据权利要求6所述的制作方法，其特征在于，两个所述第二露出部的宽度均在4～5μm之间。

8.根据权利要求6所述的制作方法，其特征在于，所述形成第一像素界定材料层的步骤之前还包括：

制作多个薄膜晶体管，所述多个薄膜晶体管与所述多个第一开口一一对应；

形成具有过孔的钝化层，其中一个所述第一露出部在所述钝化层上的正投影覆盖所述过孔。

9.根据权利要求6至8中任意一项所述的制作方法，其特征在于，形成所述第一像素界定材料层的材料包括亲水材料；形成所述第二像素界定材料层的材料包括疏水材料。

10.根据权利要求6至8中任意一项所述的制作方法，其特征在于，所述第二像素界定材料层的厚度大于所述第一像素界定材料层的厚度。

11.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1至5中任意一项所述的有机电致发光显示基板。