[发明专利]按键结构

说明书

技术领域

本发明关于一种按键结构，尤指一种利用磁吸力作为回复力的按键结构。

背景技术

传统按键结构利用于键帽下方设置的弹性构件(例如硅胶圆突)，提供键帽回 复力以直接驱使键帽回到原位(即未被按压时的位置)。为能提供使用者足够的按 压回馈手感(即使用者按压时感受的反作用力大小及其变化)，此弹性构件通常体 积难以缩小，使得此种按键结构难以适用于薄形键盘中。此外，采用具有相当 体积的弹性构件，亦会影响其他构件(例如用于提供键帽上下移动的升降机构) 的结构强度及稳定度，此问题于薄形键盘中将更形严重。因此，除非减损或牺 牲键帽作动的稳定性或按压回馈手感，否则此种按键结构实难以适用于薄形键 盘中。

发明内容

鉴于先前技术中传统的硅胶圆突等弹性构件无法适应薄形键盘的问题，本 发明提供一种按键结构，利用能与底座以磁吸力互动的支架，用于对键帽升降 作动的支架提供磁吸力，以作为键帽的回复力，使得该按键结构无需如传统硅 胶圆突所需的设置、作动空间，亦能提供使用者足够的按压回馈手感。

根据本发明的按键结构包含键帽、底座、第一支架及第三支架。该第一支 架设置于该键帽与该底座之间，该第一支架包含第一磁吸部，该键帽支撑于该 第一支架并经由该第一支架以相对于该底座上下移动。该第三支架设置于该键 帽与该底座之间并包含支撑部及第二磁吸部，该第三支架以该支撑部支撑于该 底座上，该第二磁吸部位于该键帽与该第一磁吸部之间且与该第一磁吸部之间 产生磁吸力。其中，当该键帽不受外力按压时，该磁吸力驱使该第一磁吸部与 该第二磁吸部靠近，使得该第一支架及该第三支架稳定支撑于该底座上，以及 当该键帽受外力按压而朝向该底座移动时，该第一支架朝向该底座旋转使得该 第一磁吸部与该第二磁吸部相互远离。于其它实施例中，磁吸力的大小不必然 仅能由相互作用的结构的尺寸大小决定，亦可由结构的材质而决定，故用于产 生该磁吸力的结构可仅占用相对小的空间来设置及作动，此特性有助于避免过 度影响该第一支架的结构强度及作动稳定度，故有助于实施在薄形按键结构中。 又，磁吸力随着该二磁吸部间的距离增加而呈非线性的减少，此特性有助于提 供使用者明显的回馈手感。又，磁吸力可轻易地通过改变第一磁吸部与第二磁 吸部的材质而获得所需的大小，亦即能提供使用者足够的回馈力量。

作为可选的技术方案，该第三支架包含延伸臂，该延伸臂位于该键帽与该 第一支架之间，该第三支架以该支撑部可旋转地支撑于该底座上，当该键帽受 该外力按压而朝向该底座移动时，该磁吸力驱使该延伸臂朝向该底座施力于该 第一支架。

作为可选的技术方案，该底座包含开关，该延伸臂具有触发部，该触发部 朝向该开关突出，当该键帽受该外力按压而朝向该底座移动时，该触发部触发 该开关。

作为可选的技术方案，于该键帽受该外力按压而朝向该底座的移动中，该 键帽自初始位置、经过触发位置移动至按压位置，当该键帽经过该触发位置时， 该触发部触发该开关。

作为可选的技术方案，该底座包含开关，该第一支架包含触发部，该触发 部朝向该开关突出，当该键帽受该外力按压而朝向该底座移动时，该触发部触 发该开关。

作为可选的技术方案，该延伸臂保持接触该第一支架。

作为可选的技术方案，该当该键帽不受外力按压时，该磁吸力驱使该第一 磁吸部与该第二磁吸部靠近，使得该第一支架及该第三支架相接触并稳定支撑 于该底座上。

作为可选的技术方案，该底座包含底板，该底板的一部分向上突出形成该 第三支架。

作为可选的技术方案，还包含第二支架，该第二支架设置于该键帽与该底 座之间，该键帽支撑于该第一支架及该第二支架上并经由该第一支架及该第二 支架以相对于该底座上下移动。

作为可选的技术方案，该第一支架及该第二支架枢接。

作为可选的技术方案，该第一支架及该第二支架形成剪刀结构。