[其他]用于靶材的保护构件和用于在靶材处理期间保护靶材的系统

权利要求书

1.一种用于靶材的保护构件，其特征在于，所述保护构件被定位成覆盖所述靶材，其中所述保护构件包括具有内部空腔的可充气密封件。

2.如权利要求1所述的保护构件，所述密封件放置在所述保护构件与所述靶材之间，且其中所述密封被构造为以气密的方式将所述保护构件的内部密封。

3.如权利要求1所述的保护构件，其中所述保护构件具有管结构。

4.如权利要求3所述的保护构件，其中所述保护构件是软管。

5.如权利要求1所述的保护构件，其中所述保护构件包括第一气体入口、第二气体入口和第三气体入口，所述第一气体入口用于向所述保护构件的内部提供保护气氛。

6.如权利要求5所述的保护构件，其中所述第一气体入口是泵凸缘。

7.如权利要求5所述的保护构件，其中所述第二气体入口和所述第三气体入口中的至少一个是气动阀门。

8.如权利要求1至6中任一项所述的保护构件，在所述保护构件的所述内部提供保护气氛。

9.如权利要求1至6中任一项所述的保护构件，将所述保护构件的所述内部抽空。

10.如权利要求8所述的保护构件，其中所述保护气氛是惰性气体。

11.如权利要求10所述的保护构件，其中所述惰性气体是氩气。

12.如权利要求3或4所述的保护构件，其中所述管结构包括呈半管形式的两个管段，所述两个管段利用沿着所述两个管段的纵向轴线而定位的唇缘密封件彼此连接。

13.如权利要求5或6所述的保护构件，所述保护构件进一步包括呈半管形式的两个管段，所述两个管段利用沿着所述两个管段的纵向轴线而定位的唇缘密封件彼此连接。

14.如权利要求1至6中任一项所述的保护构件，其中所述保护构件的所述密封件包括在所述保护构件的顶部部分上的第一密封件和在所述保护构件的底部部分上的第二密封件。

15.一种用于在靶材处理期间保护靶材的系统，其特征在于，所述系统包括：

如权利要求1所述的保护构件；和

靶材，所述靶材包括靶材材料，其中所述靶材材料是碱金属或碱土金属。

16.如权利要求15所述的系统，其中所述靶材材料是锂或锂合金。

17.如权利要求15至16中任一项所述的系统，其中所述靶材是垂直定位的旋转靶材。