[发明专利]具有多个溢流式洗涤器头部的多级气体洗涤器在审

专利信息
申请号: 201580082143.4 申请日: 2015-11-02
公开(公告)号: CN108290104A 公开(公告)日: 2018-07-17
发明(设计)人: 肯尼斯·詹姆斯·麦克勒兰德 申请(专利权)人: 太平洋绿色科技股份有限公司
主分类号: B01D47/02 分类号: B01D47/02
代理公司: 杭州千克知识产权代理有限公司 33246 代理人: 裴金华
地址: 美国加利福尼亚圣何塞*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 溢流 去除 湿式洗涤 头部设计 洗涤器 污染物 酸性气体去除 气体洗涤器 燃烧烟道气 污染物去除 洗涤器头部 操作特性 湿法洗涤 酸性气体 头部水平 系统添加 中和溶液 中和试剂 抛光 洗涤区 粉尘 交错 足迹 替代 应用
【权利要求书】:

1.一种用于从污染气流中去除多种不同污染物的垂直定向洗涤器装置,包括:

a)洗涤器容器,其具有顶板,底板,连接顶板和底板的圆柱形壁,多个垂直间隔开的头部,每个头部上方的隔膜,进气口,引风机和出气口;

b)浸没式头部,其水平放置在洗涤器容器下端,其中,浸没式头部包括具有多个延伸贯穿的窄槽的水平板;

c)第一洗涤流体贮存器,其设置在浸没式头部下方的洗涤器容器的底端,以及第一反应区容积,其达到浸没式洗涤头部上方的所需水平,第一洗涤流体被选择以从污染的气流中去除第一组污染物;

d)第一洗涤流体入口,其延伸到浸没式头部上方的第一隔膜中;第一喷射装置,其与第一洗涤流体入口流体连接,用于将第一洗涤流体喷射到第一洗涤流体反应区容积中;以及底板上的第一洗涤流体出口;

e)第一溢流头部,其水平延伸穿过位于第一洗涤流体入口上方的洗涤器容器的整个横截面,其中第一溢流头部包括具有多个延伸贯穿的窄槽的板;

f)第二洗涤流体反应区容积,其设置在第一溢流头部上方的所需水平,第二洗涤流体被选择以从污染气流去除第二组污染物;和

g)第二洗涤流体入口,其延伸到第一溢流头部上方的第二隔膜中;第二喷射装置,其与第二洗涤流体入口流体连接,用于将第二洗涤流体喷射到第二洗涤流体反应区容积中;第二洗涤流体入口,该第二洗涤流体入口延伸到第一溢流头部上方的第二薄膜中;第二喷射装置,其与第二洗涤流体入口流体连接,用于将第二洗涤流体喷射到第二洗涤流体反应区容积中;以及第二洗涤流体出口,其在通过洗涤器容器壁的第一溢流头部之上。

2.一种用于从污染气流中去除多种不同污染物的垂直定向洗涤器装置,包括:

a)洗涤器容器,其具有顶板,底板,连接顶板和底板的圆柱形壁,多个垂直间隔开的头部,每个头部上方的隔膜,进气口,引风机和出气口;

b)第一洗涤流体贮存器,其设置在洗涤器容器的底端达到所需水平,第一洗涤流体被选择用于从污染气流中去除第一组污染物;

c)第一溢流头部,其水平延伸穿过位于进气口上方的洗涤器容器,以界定第一洗涤流体贮存器和第一溢流头部之间的第一隔膜,其中第一溢流头部包括具有多个延伸贯穿的窄槽的板;

d)第一洗涤流体反应区容积,其设置在第一溢流头部上方的所需水平,反应区容积通过一个或多个溢流管与贮存器流体连接,每个溢流管从第一洗涤流体贮存器通过第一溢流头部延伸到第一溢流头部上方的所需水平;

f)第一洗涤流体入口,其延伸穿过所述壁进入第一溢流头部上的第二隔膜;第一喷射装置,其与第一洗涤流体入口流体连接,用于将第一洗涤流体喷射到第二洗涤流体反应区容积中;以及底板上的第一洗涤流体出口;

g)第二溢流头部,其水平延伸穿过位于第一溢流头部上方的洗涤器容器的整个横截面,以界定第一洗涤流体反应区容积与第二溢流头部之间的第二隔膜,其中第二溢流头部包括具有多个延伸贯穿的窄槽的板;

h)第二洗涤流体反应区容积,其设置在第二溢流头部上方的所需水平,第二洗涤流体被选择以从污染气流去除第二组污染物;和

i)第二洗涤流体入口,其延伸到第二溢流头部上方的第三隔膜中;第二喷射装置,其与第二洗涤流体入口流体连接,用于将第二洗涤流体喷射到第二洗涤流体反应区容积中;以及第二洗涤流体出口,其在通过洗涤器容器壁的第二溢流头部的上方。

3.根据权利要求1所述的洗涤器装置,进一步包括:

a)一个或多个附加溢流头部,其水平延伸穿过洗涤器容器的整个横截面,并连续垂直堆叠在其他头部的上方,每个头部界定一个关于下方的头部的附加隔膜;

b)一个或多个附加洗涤流体反应区容积,每个附加洗涤流体反应区容积设置在相应的溢流头部上方的所需水平,每个附加洗涤流体被选择以从污染气流中去除所需的附加污染物组;和

c)一个或多个附加洗涤流体入口,其延伸穿过所述壁进入相应附加溢流头部上方的相应附加隔膜中;附加相应喷射装置,其与附加洗涤流体入口流体连接,用于将附加洗涤流体喷射到相应的附加洗涤流体反应区容积;以及一个或多个相应附加流体出口,其在通过洗涤器容器壁的相应溢流头部的上方。

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