[发明专利]红外成像检测器

权利要求书

1.一种成像设备，包括：

第一组检测器，所述第一组检测器响应于第一波段内的红外电磁辐射；

第二组检测器：以及

滤光器，所述滤光器被布置在所述第二组检测器上方以防止在所述第二组检测器处记录在第二波段外的电磁辐射，其中，所述第二波段是所述第一波段的子集；并且

其中，所述成像设备配置为基于从所述第一组检测器和所述第二组检测器获得的信号来检测与在第三波段内的电磁辐射水平的期望值的偏差，其中，所述第三波段在所述第一波段内且在所述第二波段外；以及

其中，所述第二组检测器中的至少一个检测器配置为生成与所述第二波段内的背景电磁辐射水平相对应的参考信号，其中所述期望值是从所述参考信号和第三波长范围内的背景电磁辐射的已知光谱分布中导出的值。

2.根据权利要求1所述的成像设备，其中，所述已知光谱分布对应于来自黑体辐射器、灰体辐射器和/或光源的辐射。

3.根据前述权利要求中任一项所述的成像设备，其中，所述第一组检测器中的至少一个检测器配置为生成测量信号，所述成像设备配置为基于所述期望值和所述测量信号来确定所述偏差。

4.根据权利要求1或2所述的成像设备，其中，与所述期望值的偏差指示介质或物质在所述成像设备的视场内的存在，所述介质或物质在所述第三波段内具有吸收峰值、透射峰值和/或反射峰值。

5.根据权利要求1或2所述的成像设备，其中，所述成像设备配置为检测物质或介质的量，因为与所述期望值的偏差量指示在所述第三波段内具有吸收峰值、透射峰值和/或反射峰值的物质或介质的量。

6.根据权利要求4所述的成像设备，其中，所述介质或物质是气体。

7.根据权利要求1或2所述的成像设备，其中，所述第二波段代表与所述第一波段的较长波长相对应的窗口。

8.根据权利要求1或2所述的成像设备，其中，所述第二波段代表与所述第一波段的较短波长相对应的窗口。

9.根据权利要求1或2所述的成像设备，其中，所述滤光器配置为防止在第二波段外的电磁辐射到达所述第二组检测器。

10.根据权利要求9所述的成像设备，其中，所述滤光器包括第一滤光器层和第二滤光器层，所述第一滤光器层确定所述第二波段的上边界，并且所述第二滤光器层确定所述第二波段的下边界。

11.根据权利要求1或2所述的成像设备，其中，所述滤光器配置为透射高于确定所述第二波段的下边界的阈值波长的电磁辐射，而所述第二波段的上边界由所述第一波段的上边界确定，或者其中，所述滤光器配置为衰减高于确定所述第二波段的所述上边界的阈值波长的电磁辐射，而所述下边界由所述第一波段的下边界确定。

12.根据权利要求1或2所述的成像设备，其中，所述第一波段的上边界和下边界中的至少一个由第一组和第二组的检测器的光谱灵敏度所确定。

13.根据权利要求1或2所述的成像设备，进一步包括：全局滤光器，所述全局滤光器被布置在所述第一组检测器和所述第二组检测器上方。

14.根据权利要求13所述的成像设备，其中，所述全局滤光器配置为确定所述第一波段的至少一个边界。

15.根据权利要求1或2所述的成像设备，其中，所述第一组检测器和所述第二组检测器被安排成二维阵列。

16.根据权利要求15所述的成像设备，其中，所述第一组检测器和所述第二组检测器被安排成棋盘状图案。