[发明专利]转印型感光性折射率调整膜、折射率调整图案的形成方法及电子部件

权利要求书

1.一种转印型感光性折射率调整膜，其具备支撑膜、设置在该支撑膜上的感光性树脂层和设置在该感光性树脂层上的高折射率层，

所述感光性树脂层含有光聚合性化合物和光聚合引发剂，

所述光聚合引发剂含有肟酯化合物或氧化膦化合物。

2.根据权利要求1所述的转印型感光性折射率调整膜，其中，所述感光性树脂层及所述高折射率层在波长400～700nm下的可见光透射率的最小值为90.00％以上。

3.根据权利要求1或2所述的转印型感光性折射率调整膜，其中，所述高折射率层含有具有三嗪环的化合物或含有具有异氰脲酸的化合物。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的转印型感光性折射率调整膜，其中，所述高折射率层含有具有芴骨架的化合物。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的转印型感光性折射率调整膜，其中，所述高折射率层含有金属氧化物。

6.根据权利要求5所述的转印型感光性折射率调整膜，其中，所述金属氧化物为选自氧化锆、氧化钛、氧化锡、氧化锌、氧化铟锡、氧化铟、氧化铝、氧化硅及氧化钇中的至少1种。

7.根据权利要求1～6中任一项所述的转印型感光性折射率调整膜，其中，所述高折射率层在波长633nm下的折射率为1.50～1.90。

8.根据权利要求1～7中任一项所述的转印型感光性折射率调整膜，其中，所述高折射率层的膜厚为10～500nm。

9.根据权利要求1～8中任一项所述的转印型感光性折射率调整膜，其中，所述感光性树脂层含有粘合剂聚合物。

10.根据权利要求9所述的转印型感光性折射率调整膜，其中，所述粘合剂聚合物具有羧基。

11.根据权利要求9或10所述的转印型感光性折射率调整膜，其中，所述粘合剂聚合物为含有来源于选自(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、(甲基)丙烯酸苄酯、苯乙烯、(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丁酯及(甲基)丙烯酸2-乙基己酯中的至少1种化合物的结构单元的粘合剂聚合物。

12.根据权利要求8～11中任一项所述的转印型感光性折射率调整膜，其中，所述感光性树脂层含有磷酸酯化合物。

13.根据权利要求1～12中任一项所述的转印型感光性折射率调整膜，其中，所述感光性树脂层与所述高折射率层的总厚度为30μm以下。

14.一种折射率调整图案的形成方法，其具备以下工序：

使用权利要求1～13中任一项所述的转印型感光性折射率调整膜，按照所述高折射率层密合在所述基材上的方式，将所述高折射率层及所述感光性树脂层层压在基材上的工序；和

对所述基材上的所述高折射率层及所述感光性树脂层的规定部分进行曝光后，将所述规定部分以外的部分除去，形成折射率调整图案的工序。

15.一种电子部件，其具有通过权利要求14所述的形成方法获得的折射率调整图案。