[发明专利]稳定化的微孔晶态材料、其制备方法和用于NOx 有效
申请号: | 201580078465.1 | 申请日: | 2015-04-09 |
公开(公告)号: | CN107548380B | 公开(公告)日: | 2021-12-21 |
发明(设计)人: | H-X·李;B·莫登;D·库珀;W·E·科米尔 | 申请(专利权)人: | PQ公司 |
主分类号: | C01B39/06 | 分类号: | C01B39/06;C01B39/46;B01D53/86;B01D53/94;B01J29/76 |
代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 李跃龙 |
地址: | 美国宾*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 稳定 微孔 晶态 材料 制备 方法 用于 no base sub | ||
1.一种具有8环孔隙开口和双6环(d6r)的结构单元的微孔晶态材料,其中所述材料包括选自碱土金属族、稀土族、碱金属族或其混合物的第一金属,以及选自铜、铁或其混合物的第二金属,
其中所述材料具有3-12的二氧化硅与氧化铝的摩尔比(SAR);并且
表现出0.7-0.9的表示的NH3/Al摩尔比的NH3吸附容量,其中所述材料具有包括选自CHA、LEV、AEI、AFT、AFX、EAB、ERI、KFI、SAT、TSC和SAV的结构代码的晶体结构。
2.根据权利要求1所述的微孔晶态材料,其中所述材料具有3至5埃的孔隙开口和0.3至5微米的平均晶粒尺寸。
3.根据权利要求1所述的微孔晶态材料,其中所述材料包含CHA结构。
4.根据权利要求3所述的微孔晶态材料,其中所述CHA结构具有低于94.55度的单胞角,和低于36.05度2-θ的[3 2 0]峰。
5.根据权利要求4所述的微孔晶态材料,其中所述CHA结构具有94.30-94.50度的单胞角。
6.根据权利要求1所述的微孔晶态材料,其中所述第一金属包括镁、钙、锶、钡、镧、铈、镨、钕、混合稀土氧化物、钾、铷、铯或其混合物。
7.根据权利要求1所述的微孔晶态材料,其具有0.05-0.80的第一金属与铝的原子比,使得当所述第一金属包含钙时,所述材料具有0.05-0.50的钙与铝原子比;当所述第二金属包含铜时,所述材料具有0.05-0.20的铜与铝原子比;且当所述第二金属包含铁时,所述材料具有0.05-0.30的铁与铝的原子比。
8.根据权利要求1所述的微孔晶态材料,其中所述材料在暴露于包括在环境温度下浸入水中1小时的条件下之后保持其表面积的至少80%。
9.一种选择性催化还原废气中的氮氧化物的方法,所述方法包括:
至少部分地将所述废气与包含具有8环孔隙开口和双6环(d6r)的结构单元的微孔晶态材料的制品接触,其中所述材料包含选自碱土金属族、稀土族、碱金属族或其混合物的第一金属和选自铜、铁或其混合物的第二金属,
其中所述微孔晶态材料具有3-12的二氧化硅与氧化铝的摩尔比(SAR);并且
表现出0.7-0.9的表示为NH3/Al摩尔比的NH3吸附容量,
其中所述微孔晶态材料具有包括选自CHA、LEV、AEI、AFT、AFX、EAB、ERI、KFI、SAT、TSC和SAV的结构代码的晶体结构。
10.根据权利要求9所述的方法,其中所述材料包含CHA结构,所述CHA结构具有小于94.55度的单胞角,以及低于36.05度2-θ的[3 2 0]峰。
11.根据权利要求9所述的方法,其中在氨、或产氨化合物的存在下进行所述接触步骤。
12.根据权利要求9的所述方法,其中在尿素或烃化合物的存在下进行所述接触步骤。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于PQ公司,未经PQ公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201580078465.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:装饰件与灯罩简易配合的吸顶灯
- 下一篇:含石膏的组合物