[发明专利]测量处理装置、X射线检查装置、测量处理方法、测量处理程序及结构物的制造方法

权利要求书

1.一种测量处理装置，其用于X射线检查装置，具备：

区域信息获得部，其获得基于透射第一被测量物的一部分即第一区域的X射线的第一区域信息；

存储部，其所述存储比第一区域大的、与第二被测量物的第二区域有关的第二区域信息；

判断部，其基于所述第一区域信息和所述第二区域信息，判断与所述第一区域对应的区域是否包括在所述第二区域中。

2.如权利要求1所述的测量处理装置，

所述第一区域具有包含所述第一被测量物的设定的截面的设定的厚度，

所述第二区域具有大于所述第一区域的厚度。

3.如权利要求2所述的测量处理装置，

所述第一被测量物和所述第二被测量物具有相同的结构，

所述第二区域信息是基于表示所述第二被测量物的结构的设计数据的信息。

4.如权利要求2所述的测量处理装置，

所述第一被测量物和所述第二被测量物具有相同的结构，

所述第二区域信息是基于透射所述第二被测量物的所述第二区域的X射线的信息。

5.如权利要求2所述的测量处理装置，

所述第一被测量物和所述第二被测量物具有相同的结构，

所述第二区域信息是除所述X射线检查装置之外的测量检查装置测量所述第二被测量物的所述第二区域的至少一部分的测量信息。

6.如权利要求2所述的测量处理装置，

还具备判断部，

所述第二区域信息包含与所述第一被测量物的检查对象的区域有关的检查对象区域信息，

所述判断部基于所述第一区域信息和所述第二区域信息，判断所述第一区域信息是否与所述检查对象区域信息对应。

7.如权利要求6所述的测量处理装置，还具备：

评价部，所述判断部判断所述第一区域信息与所述检查对象区域信息对应，则基于所述第一区域信息评价该第一区域的状态；

位置差计算部，所述判断部判断所述第一区域信息不与所述检查对象区域信息对应，则基于所述第一区域信息和所述第二区域信息，计算所述第一区域和所述检查对象的区域的位置的差。

8.一种测量处理装置，用于X射线检查装置，具备：

存储部，其存储与包含被测量物的检查对象区域且比所述检查对象区域大的设定区域对应的设定区域信息；

区域信息获得部，其基于透射被测量物的一部分区域的X射线获得与所述一部分区域有关的区域信息；

判断部，其根据所述区域信息和所述设定区域信息，判断所述一部分区域是否与所述检查对象区域对应。

9.如权利要求8所述的测量处理装置，

所述设定区域信息是基于表示被测量物的结构的设计数据的信息。

10.如权利要求8所述的测量处理装置，

所述设定区域信息是基于透射被测量物的所述设定区域的X射线的信息。

11.如权利要求8所述的测量处理装置，

所述设定区域信息是除所述X射线检查装置之外的测量检查装置测量被测量物的所述设定区域的至少一部分的测量信息。

12.如权利要求8所述的测量处理装置，

评价部，所述判断部判断所述一部分区域与所述检查对象区域对应，则基于所述区域信息对该一部分区域的状态进行评价；

位置差计算部，所述判断部判断所述一部分区域不与所述检查对象区域对应，则基于所述区域信息和所述设定区域信息，计算所述一部分区域和所述检查对象区域的位置的差。

13.一种测量处理装置，用于X射线检查装置，具备：

区域信息获得部，其基于透射被测量物的一部分区域的X射线获得与所述一部分区域有关的区域信息；

标准信息存储部，其存储与被测量物的一部分区域有关的标准信息；

位置特定部，其基于所述区域信息和所述标准信息，特定所述一部分区域的位置。

14.如权利要求1～13的任一项所述的测量处理装置，

一种X射线检查装置，具备：

对被测量物照射X射线的X射线源，及

对透射所述被测量物的X射线进行检测的检测部。